亞微米和深亞微米IC中的ESD保護結(jié)構(gòu)研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、ESD(靜電放電)引起IC(集成電路)產(chǎn)品失效已占到IC產(chǎn)品失效的40%,它已成為影響集成電路可靠性的一項重要因素。因此,要使芯片具有高的質(zhì)量和可靠性就必須解決ESD問題。隨著CMOSIC特征尺寸的不斷減小,工藝技術(shù)的不斷發(fā)展以及新材料的引入都可能對ESD防護產(chǎn)生負面影響。為實施對芯片的ESD保護,芯片的每一個管腳旁邊都需要放置防護電路。ESD防護電路在芯片正常工作時是不開啟的,只有當(dāng)該芯片受到ESD沖擊時才進入工作狀態(tài)。本文在對ESD

2、產(chǎn)生機理、物理模型以及GGNMOS保護結(jié)構(gòu)的分析基礎(chǔ)上,通過仿真取值,設(shè)計出一種針對芯片I/O管腳的柵極耦合MOS保護結(jié)構(gòu)和版圖:另外,針對VDD—VSS和Pin—Pin兩種模式放電造成的內(nèi)部電路靜電損傷情況,本文設(shè)計了一種由傳輸診測電路控制的STFOD保護結(jié)構(gòu)和版圖,該結(jié)構(gòu)具有觸發(fā)時間快且占用芯片面積較小的特點,能夠在芯片中充當(dāng)有效的靜電釋放通道。最后本文根據(jù)本芯片的各個PAD性質(zhì)和分布設(shè)計了一個全芯片的保護方案,并對版圖設(shè)計過程中的

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