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文檔簡介
1、本文對深亞微米級IC晶片缺陷檢測的機(jī)器視覺系統(tǒng)進(jìn)行了研究,重點(diǎn)包括以下兩個(gè)問題: 一是圖像畸變的校正。選取多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)網(wǎng)格和點(diǎn)陣模型用Auto CAD繪制,然后用激光打印得到標(biāo)準(zhǔn)圖樣,通過CCD圖像傳感器采集到畸變圖像,從位置校正、灰度校正兩個(gè)方面來分析。選擇典型的畸變圖像提取特征點(diǎn)的理想坐標(biāo)和實(shí)際畸變點(diǎn)的坐標(biāo),采用四階畸變函數(shù),用MATLAB計(jì)算畸變系數(shù),在VC++6.0環(huán)境下編程實(shí)現(xiàn)。實(shí)驗(yàn)表明,畸變的校正取得了好的效果。
2、 二是針對存儲器,CCD圖像傳感器、LCD等類型的IC的缺陷檢測方法。這些類型的IC的每個(gè)單元(存儲單元或圖像感應(yīng)單元或圖像顯示單元)版圖完全一樣。在理解這類IC表面圖像特征的基礎(chǔ)上,采用基于ESPRIT算法的自比較模板匹配缺陷檢測方法。將采集到的IC顯微圖像經(jīng)過畸變校正、濾波、二值化后,沿水平、垂直方向投影得到兩幅含有噪聲的周期信號,投影后將一幅二維圖像變成兩幅一維圖像,有效地減少計(jì)算量。應(yīng)用ESPRIT(旋轉(zhuǎn)不變子空間技術(shù))算法精確
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