基于時(shí)間序列的s-EWMARtR控制中SPC控制圖的設(shè)計(jì).pdf

1、Run-to-Run(RtR)過程控制自上世紀(jì)90年代提出之后，已獲得了大量的研究與發(fā)展。它是SPC與EPC的一種聯(lián)合控制方法，取各自的優(yōu)點(diǎn)，彌補(bǔ)彼此的缺點(diǎn)?，F(xiàn)有大量文獻(xiàn)都是集中在過程中有確定漂移趨勢(shì)時(shí)，如何在EPC中改進(jìn)調(diào)整措施，少有文獻(xiàn)研究改進(jìn)SPC在控制過程中的作用，多是用輸出值與目標(biāo)值的偏差做簡(jiǎn)單的休哈特控制圖，但該偏差并不是獨(dú)立同分布的，由此得到的統(tǒng)計(jì)性質(zhì)并不可靠。
　　 本文在s-EWMA RtR過程控制中引入時(shí)間序

2、列分析，可以得到一個(gè)獨(dú)立同分布的殘差，在此基礎(chǔ)上可以作各種標(biāo)準(zhǔn)的SPC控制圖，不但可以對(duì)過程漂移趨勢(shì)(尤其是小漂移)進(jìn)行快速檢測(cè)，還可以檢驗(yàn)對(duì)過程噪聲因子的假設(shè)。同時(shí)，本文還提出了s-EWMA RtR過程控制加權(quán)因子的最優(yōu)選擇準(zhǔn)則；已有文獻(xiàn)是從狀態(tài)空間理論出發(fā)來解決該問題，然而它受限于對(duì)過程噪聲因子為白噪聲的假定，本文提出的準(zhǔn)則不限于該假定，而是擴(kuò)大到一般的ARIMA(p，d，q)序列。最后，本文對(duì)RtR，MMSE，及PID三個(gè)工業(yè)生產(chǎn)