1、曲面微透鏡陣列以其大視場(chǎng)、對(duì)動(dòng)態(tài)物體捕捉靈敏度高以及設(shè)計(jì)自由度高等諸多優(yōu)點(diǎn)，使其在國防科技、航空航天等現(xiàn)代工業(yè)領(lǐng)域有著越來越重要的地位。目前國內(nèi)外現(xiàn)有的曲面微透鏡陣列的制作技術(shù)主要是以逐點(diǎn)法加工制作為主，然而這類制作方法周期長，成本高、效率低，在工業(yè)化的應(yīng)用上有很大的限制。本文基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)，利用平面數(shù)字掩模的灰度值對(duì)曝光劑量進(jìn)行縱向調(diào)制，從而在平面基底上形成曲面微透鏡陣列結(jié)構(gòu)。本文深入研究數(shù)字掩模、曝光劑量、制作深度的映射關(guān)系，
2、研究了基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作曲面微透鏡陣列的方法。該方法與目前存在的方法相比，是一種快速的制作方法，具有制作周期短、制作成本低、制作效率高等優(yōu)點(diǎn)。該方法在工業(yè)化應(yīng)用和產(chǎn)業(yè)化制作上有著很好的前景，可以廣泛的應(yīng)用于現(xiàn)代化微納加工制作等相關(guān)領(lǐng)域。
主要研究的內(nèi)容：
1.研究了基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作曲面透鏡陣列的方法。該方法利用 SLM對(duì)曝光劑量調(diào)制，從而精確調(diào)制基底每一個(gè)像素點(diǎn)的曝光劑量，最終使得基底接收到的曝光劑量近
3、似達(dá)到曲面微透鏡陣列的結(jié)構(gòu)。
2.針對(duì)積分算法設(shè)計(jì)數(shù)字掩模的受限性，本文提出逐點(diǎn)優(yōu)化方法來設(shè)計(jì)曲面微透鏡陣列的數(shù)字掩模。并對(duì)該方法的機(jī)理、系統(tǒng)以及數(shù)字掩模設(shè)計(jì)進(jìn)行了深入的研究。最后通過實(shí)驗(yàn)進(jìn)行了曲面微透鏡陣列的制作，并且對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的尺寸與設(shè)計(jì)輪廓的尺寸進(jìn)行了比較研究，從而驗(yàn)證該方法的可行性。
3.針對(duì)曲面微透鏡陣列制作時(shí)陣列的尺寸受限于制作系統(tǒng)的制作面積，研究了數(shù)字掩模曲面拼接方法用來制作大面積曲面微透鏡陣列。并對(duì)拼