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文檔簡介
1、隨著集成電路制造工藝進入深亞微米以及超深亞微米,電路規(guī)模越來越大,集成度和復雜度也越來越高。為了提高電路設計效率,縮短設計周期,保證芯片設計一次成功,設計過程中必然會使用已通過驗證的可重復使用的標準單元庫。目前,作為全球最大的8寸晶圓代工廠,華虹宏力半導體制造有限公司也推出了90納米嵌入式閃存工藝平臺的標準單元庫,該標準單元庫將廣泛應用在SIM卡、Ukey、SWP、社???、交通卡等智能卡、安全芯片產(chǎn)品以及MCU產(chǎn)品的設計過程中。為驗證該
2、標準單元庫的時序精度以及該平臺仿真模型的精度,本文選取了具有代表性的標準單元反相器、與非門、或非門作為被測對象。介紹了該平臺標準單元庫的建立步驟,并著重介紹了標準單元時序延遲測量電路的設計與驗證工作。
首先,本文介紹華虹宏力90納米嵌入式閃存工藝平臺的標準單元庫的全流程設計步驟。其次,以標準單元庫的速度參數(shù)驗證為重點,詳細闡述了時序延遲測量的重要性,以及本文在時序延遲測量方面所做的工作。本文對時序延遲測量電路的設計、版圖的設計
3、、寄生參數(shù)的提取、實測數(shù)據(jù)與仿真數(shù)據(jù)的比較與分析等方面進行了研究分析。
時序延遲測量電路設計方面,本文采用了器件傳輸延遲抵消、連線傳輸延遲抵消的方法,消除了測量電路本身的傳輸延遲,避免將測量電路的傳輸延遲計算入標準單元被測電路中。該電路通過測量輸入信號獲得被測電路的延遲,也避免了測量輸出信號,在輸出端引入測量儀器負載的風險,該測量電路優(yōu)于傳統(tǒng)的測量方法。
版圖設計方面,本文除了匹配器件與連線抵消延遲之外,在電源與地電
4、位的均一化,信號線與時鐘線的屏蔽、抗干擾,降低寄生負載等方面也作了設計。
寄生參數(shù)提取方面,本文充分考慮了介紹華虹宏力90納米嵌入式閃存平臺的工藝特性,對阱鄰近效應,AIR-GAP效應,源漏端單位電阻效應,寄生電阻,寄生電容的提取,以及寄生二極管的分配等進行了優(yōu)化計算。
實測數(shù)據(jù)與仿真數(shù)據(jù)的比較分析方面,本文對不同工藝角情況下的仿真與實測數(shù)據(jù)進行了分析比較。得出了實測數(shù)據(jù)比仿真數(shù)據(jù)偏大3%左右,偏差結(jié)果小于預期并且偏
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