利用ITO靶材回收制備金屬銦.pdf

1、ITO靶材是電子信息產(chǎn)業(yè)中顯示器鍍膜用電極材料，工業(yè)上采用ITO靶材磁控濺射方法制備ITO薄膜，但是，靶材濺射鍍膜過程中利用率低，加上靶材加工過程中產(chǎn)生的邊角料和切屑，使其利用率僅達(dá)到30％。因此利用廢靶材回收金屬銦成為再生銦的主要來源，回收處理ITO廢靶材具有重要的理論意義和實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。金屬銦主要用來制造半導(dǎo)體化合物，是微電子學(xué)儀器的基礎(chǔ)材料，隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，對金屬銦的純度的要求越來越高。 本文研究了采用廢ITO靶材回

2、收制備金屬銦工藝中的主要影響因素，結(jié)果表明，當(dāng)鹽酸濃度為6mol/L、用量為理論用量的4倍，溫度90℃時(shí)，靶材溶解迅速完全；熔煉最佳溫度400℃。最佳電解工藝條件為：pH=2-3，一次電解槽電壓300-350mV，二次電解槽電壓260-300mV，極距60-80mm，電流密度60-80A·m<'-2>，電解溫度20-30℃。得到金屬銦純度99.9956％，符合銦錠國標(biāo)YS/T257-1998要求，銦總回收率91％。整個實(shí)驗(yàn)過程具有能耗低