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文檔簡(jiǎn)介
1、青霉素是最常用的抗生素類(lèi)藥物之一,我國(guó)每年青霉素的產(chǎn)量約為26300噸,青霉素在其生產(chǎn)過(guò)程中排放大量高濃度有機(jī)發(fā)酵釜底液,該廢液COD濃度高,成分復(fù)雜,可生化性差,是環(huán)境工程領(lǐng)域的研究難題。 本文主要采用高級(jí)氧化法(AOP法)對(duì)青霉素發(fā)酵釜底液的處理進(jìn)行了較深入系統(tǒng)的試驗(yàn)研究,探索了一套合理的處理工藝。本文主要研究了酸析-混凝、Fenton氧化、UV/Fenton氧化、電-Fenton氧化以及微波氧化等工藝方法對(duì)該廢液的處理效
2、果,系統(tǒng)分析了酸析-混凝過(guò)程中pH值、混凝劑投加量以及靜置時(shí)間對(duì)COD去除效果的影響;分析了在Fenton氧化以及UV/Fenton氧化過(guò)程中pH值、氧化劑用量、催化劑用量以及氧化時(shí)間等各種因素對(duì)COD去除效果的影響;分析了在電-Fenton氧化過(guò)程中電壓、電流以及電解時(shí)間等因素對(duì)COD去除率的影響:分析了在微波氧化過(guò)程中,pH值、催化劑投加量、氧化劑投加量、微波工作壓力以及微波照射時(shí)間對(duì)微波氧化處理效果的影響。實(shí)驗(yàn)表明,酸析-混凝處理
3、在pH值為5.0,投加FeCl3500mg/(L廢水),靜置45min,可去除青霉素廢水中57.6%的COD,BOD5/CODCr=0.22;在傳統(tǒng)Fenton體系中,pH值為2.5,F(xiàn)e2+濃度為6g/(L廢水),投加H2O2的量分別80ml/(L廢水),反應(yīng)45min可去除青霉素發(fā)酵釜底液中41.1%的COD;在UV/Fenton體系中,pH值為3.0,F(xiàn)e2+濃度為4g/(L廢水),H2O2的投加量為70ml/(L廢水),反應(yīng)45
4、min,可去除青霉素廢水中44.1%的COD,BOD5與CODCr的比值由原來(lái)的0.22提高到0.36;在電-Fenton體系中,pH值為2.5,加以15V電壓,0.5A的電流,電解60min,可去除廢水中45.0%的COD:在微波濕式氧化法過(guò)程中,pH值為4.0,壓力為0.8Mpa,微波輻照6min,可去除廢水中36.6%的COD;在微波-fenton體系中,pH值為4.0,壓力為0.2Mpa,H2O2投加量為30ml/(L廢水),F(xiàn)
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