新型有機(jī)錫化合物和氟碳標(biāo)記化合物的合成與表征.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在對大量文獻(xiàn)調(diào)查研究的基礎(chǔ)上，我們合成了多種尚未見文獻(xiàn)報道的二烴基錫羧酸酯類化合物。其中化合物(10)(C6F13CH2CH2)2Sn(OOCCH=CHPh)2是由二氟碳基錫二氯化物(C6F13CH2CH2)2SnCl2和PhCH=CHCOOH在Et3N作用下合成的。反應(yīng)式表示如下：(C6F13CH2CH2)2SnCl2+PhCH=CHCOOH→Et3N(C6F13CH2CH2)2Sn(OOCCH=CHPh)2論文中其它二烴基錫羧酸酯都

2、是以二氟碳基錫氧化物(C6F13CH2CH2)2SnO、二正丁基錫氧化物(n-C4H9)2SnO和不同結(jié)構(gòu)的羧酸RCOOH為原料，較高產(chǎn)率(68～95％)地合成的。這些化合物的合成方法可以用下面反應(yīng)式表示：[R12SnO]2+nRCOOHn=1{[R12SnOOCR]O}2n=2R12Sn(OOCR)2n=4R12Sn(OOCR)4所有化合物都通過IR、1HNMR表征，部分化合物還用13CNMR和119SnNMR進(jìn)行了表征。這些化合物屬

3、于四種構(gòu)型{[R2Sn(OOCR)]2O}2(A)、R2Sn(OOCR)2(B)(分子中有帶孤對電子的OH)、R2Sn(OOCR)4(C)和R2Sn(OOCR)2(D)，在這四類化合物(A)、(B)、(C)和(D)中，中心錫原子具有不同的配位形式和配位數(shù)。 本文擬通過準(zhǔn)外消旋體合成法達(dá)到“一鍋煮”同步合成1，2，4-氧雜二唑衍生物的目的。作者根據(jù)準(zhǔn)外消旋體合成法中標(biāo)記基團(tuán)的要求，合成了兩種含氟量不同且極性差別較大的化合物作為標(biāo)記

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