關(guān)于射頻電源匹配器的產(chǎn)生低溫等離子體的應(yīng)用原理

1、 關(guān)于射頻電源介紹與應(yīng)用射頻電源是等離子體配套電源,它是由射頻功率源,阻抗匹配器以及阻抗功率計組成,是八十年末期在我國新興的高科技領(lǐng)域,應(yīng)用于射頻濺射,PECVD 化學(xué)氣相沉積,反應(yīng)離子刻蝕等設(shè)備中. 現(xiàn)代的射頻電源有了長足發(fā)展，由八十年代的電子管電源一步步的發(fā)展成現(xiàn)在的晶體管射頻電源，功率由瓦、百瓦、千瓦、到兆瓦，頻率有2Mhz/13.56Mhz/27.12Mhz/40.68Mhz 等，而應(yīng)用也從以前的真空領(lǐng)

2、域擴展到其他領(lǐng)域，半導(dǎo)體、美容等。[1]射頻電源產(chǎn)生低溫等離子體射頻電源產(chǎn)生等離子的原理，是在一個密閉的真空壓力容器內(nèi)，利用真空泵獲得一定的真空度，射頻被饋入到真空室的兩個極板之間。在兩個極板之間產(chǎn)生一個變電場。氣體在電場上被電離，產(chǎn)生相對應(yīng)的離子。帶電離子被加速不斷的碰撞氣體分子產(chǎn)生級聯(lián)效應(yīng)。就這樣產(chǎn)生了輝光，從而產(chǎn)生了等離子體。什么是等離子體等離子體是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它是除

3、去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。等離子體是一種很好的導(dǎo)電體，利用經(jīng)過巧妙設(shè)計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源、信息、環(huán)境空間，空間物理，地球物理等科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展提新的技術(shù)和工藝。 看似“神秘”的等離子體，其實是宇宙中一種常見的物質(zhì)，在太陽、恒星、閃電中都存在等離子體，它占了整個宇宙的 99%?，F(xiàn)在人們已經(jīng)掌握利用電場和磁場產(chǎn)生來控制等離子體。例如焊工們用高溫等離子體焊接金屬。 等離子體可分為兩種：高

4、溫和低溫等離子體。以上提到的是高溫等離子體?，F(xiàn)在低溫等離子體廣泛運用于多種生產(chǎn)領(lǐng)域。例如：等離子電視，嬰兒尿布表面防水涂層，增加啤酒瓶阻隔性。更重要的是在電腦芯片中的蝕刻運用，讓網(wǎng)絡(luò)時代成為現(xiàn)實。 高溫等離子體只有在溫度足夠高時發(fā)生的。太陽和恒星不斷地發(fā)出這種等離子體，組成了宇宙的 99%。低溫等離子體是在常溫下發(fā)生的等離子體（雖然電子的溫度很高）。低溫等離子體體可以被用于氧化、變性等表面處理或者在有機物和無機物上進(jìn)行沉淀涂層處理。射頻

5、電源的工作原理射頻收發(fā)核心電路射頻即 Radio Frequency，通?？s寫為 RF。表示可以輻射到空2、不僅可濺射金屬靶，也可濺射絕緣靶，可以把導(dǎo)體，半導(dǎo)體，絕緣體中的任意材料薄膜化。3、必須十分注意接地問題。近年來，射頻濺射在研制大規(guī)模集電路絕緣膜、壓電聲光功能膜、化合物半導(dǎo)體膜及高溫超導(dǎo)膜等方面有重要應(yīng)用。二 射頻應(yīng)用 PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) --

6、等離子體增強化學(xué)氣相沉積法PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種 CVD 稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD). 實驗機理：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出高質(zhì)量