等離子體鍍膜電源的研究與設(shè)計(jì).pdf

1、隨著電子技術(shù)的高速發(fā)展，電子系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣泛，電子設(shè)備的種類也越來越多，電子設(shè)備與人們的工作、生活的關(guān)系日益密切。任何電子設(shè)備都離不開可靠的電源，它們對(duì)電源的要求也越來越高?，F(xiàn)代社會(huì)中，對(duì)某些產(chǎn)品的硬度都有一定的要求，為了達(dá)到這個(gè)目的，在工業(yè)生產(chǎn)過程中，往往需要對(duì)某些產(chǎn)品進(jìn)行表面鍍膜，以增強(qiáng)其耐磨性和耐刮性；譬如日常生活中的手表和手機(jī)外殼、譬如工業(yè)領(lǐng)域中用到的鉆頭，刀片等等。在物理化學(xué)領(lǐng)域，這屬于表面改性，需要使真空爐中的某些氣

2、體在一定的氣壓和真空度下進(jìn)行強(qiáng)電場(chǎng)等離子體電離，從而對(duì)真空爐中的掛件進(jìn)行等離子體表面鍍膜；這就需要一個(gè)高頻脈沖電源對(duì)真空爐的兩個(gè)電極施加一定頻率的電壓場(chǎng)。本論文所研究設(shè)計(jì)的電源正是滿足這種需要的高頻脈沖電源。本文所設(shè)計(jì)的電源采用了三相工頻交流電電源輸入，經(jīng)過三相可控硅整流濾波后，再通過全橋逆變和高頻變壓器升壓；控制電路采用PWM(脈寬調(diào)制)和PID(比例、微分、積分)控制，從而得到設(shè)備所需要的高頻方波脈沖。經(jīng)過理論研究、原理圖設(shè)計(jì)和整機(jī)