hbz 5087.3-2004 酸性電鍍銅溶液分析方法 第3部分：電位滴定法測定硫酸的含量

1、H日中華人民共和國航空行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)FL0140HBZ5087.3一2004代替HBZ5087一1978酸性電鍍銅溶液分析方法第3部分:電位滴定法測定硫酸的含量Methodsforanalysisofacidplatingcoppersolutionspart3:Determinationofsulphuricacidcontentbypotentiometrictitrimetricmethod2004一02一16發(fā)布2004一06一01實(shí)

2、施國防科學(xué)技術(shù)工業(yè)委員會(huì)發(fā)布HBZ5087.3一2004酸性電鍍銅溶液分析方法第3部分:電位滴定法測定硫酸的含量范圍本部分規(guī)定了采用電位滴定法測定酸性電鍍銅溶液中硫酸含量的原理、試劑、儀器、分析步驟和分析結(jié)果的計(jì)算。本部分適用于酸性電鍍銅溶液中硫酸含量的測定。測量范圍:40習(xí)L60習(xí)Lo2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包含勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本部分

3、，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本部分。HBZ5083一2001金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋溶液分析用試劑3原理基于酸堿滴定。以玻璃電極為指示電極，飽和甘汞電極為參比電極，用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液進(jìn)行電位滴定。4試劑氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液:約lmolL，配制和標(biāo)定按HBZ5083一2001中6.1的規(guī)定進(jìn)行。5儀器5.1玻璃電極。5.2飽和甘汞電極。5.3酸度計(jì)或自動(dòng)電位滴

4、定儀:應(yīng)具有0.1pH單位或1Omv的精確度。6分析步驟量取10.OOmL試驗(yàn)溶液于200mL燒杯中，加90mL水，在中速攪拌下，浸泡電極lmin，用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液(4)進(jìn)行電位滴定，滴定至pH值4.0為滴定終點(diǎn)。7分析結(jié)果的計(jì)算按式(1)計(jì)算硫酸〔HZSO(p約1.84gmL)」的含量W，數(shù)值以克每升(歲L)表示:一VxcxMVn式中:V滴定終點(diǎn)時(shí)耗用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液的體積，單位為毫升(mL)‘—?dú)溲趸c標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液的濃度單