光刻膠制備工藝技術(shù)

1、101141490.1光刻膠用剝離液組合物202128219.6光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法302142279.6光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法402131624.4反射防止膜的光學(xué)常數(shù)的決定方法和光刻膠圖形的形成方法502142219.2光刻膠組合物602148233.0光刻膠組合物700816779.6用于深紫外線輻射的光刻膠組合物802145886.3化學(xué)放大型正性光刻膠組合物900817637.X檢

2、測(cè)光刻膠剝離過(guò)程終點(diǎn)的方法和裝置1001807989.X化學(xué)增強(qiáng)光刻膠及一種光刻膠合成物1102153815.8光刻膠圖案的形成方法和光刻膠層合體1201808573.3光刻膠剝離劑組合物1302140154.3光刻膠層中減小圖案大小的方法1401804796.3具有酸反應(yīng)性基團(tuán)的新穎含氟聚合物以及使用這些材料的化學(xué)增幅型光刻膠組合物1502141841.1光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法1601810235.2光刻膠去除劑

3、混合物1701811264.1負(fù)作用化學(xué)放大的光刻膠組合物1802154275.9環(huán)狀锍和氧化锍及含有它們的光致酸生成劑和光刻膠1901811577.2感光性樹(shù)脂組合物、使用它的感光性元件、光刻膠圖案的制造方法及印刷電路板的制造方法2003120076.1光刻膠剝離組合物及清洗組合物2102120076.9用于剝離光刻膠的組合物2201812974.9用于深紫外線的光刻膠組合物及其方法2303136946.4用于形成防反射膜的涂布液組合

4、物、光刻膠層合體以及光刻膠圖案的形成方法2400819669.9包括氟化銨的光刻膠去除劑組合物2503109544.5光刻膠剝離除去方法及裝置2601814891.3用于有機(jī)硅酸鹽玻璃的低K蝕刻應(yīng)用中的蝕刻后由氫進(jìn)行的光刻膠剝離2700819962.0將干燥光刻膠膜層熱層壓到印刷電路板上的方法2895192017.0穩(wěn)定的離聚物光刻膠乳狀液及其制備方法和應(yīng)用2996114151.4超強(qiáng)酸催化的無(wú)顯影氣相光刻膠3096114150.6有機(jī)

5、堿催化的無(wú)顯影氣相光刻膠3195196387.2用于微電子的無(wú)胺光刻膠粘接促進(jìn)劑3285100457稀土順式聚異戊二烯負(fù)型光刻原膠的制備490200810202184.4一種用于厚膜光刻膠的清洗劑491200810202490.8一種厚膜光刻膠清洗劑492200910211961.6化合物及含有該化合物的化學(xué)增幅光刻膠組合物493200810203714.7一種光刻膠清洗劑組合物494200810203715.1一種光刻膠清洗劑組合物4

6、95200810204103.4一種光刻膠清洗劑組合物496200910253786.7光刻膠剝離劑用組合物及薄膜晶體管陣列基板的制造方法497200880023292.3一種光刻膠清洗劑498200910249060.6一種電熱驅(qū)動(dòng)光刻膠微夾鉗的制作方法499200810207833.X使用普通噴嘴實(shí)現(xiàn)降低阻膠消耗的光刻膠涂布工藝500200810208048.6光刻膠滴注系統(tǒng)、光刻膠噴嘴及其使用方法501200810208070.0

7、光刻膠的去除方法及連接孔的制造方法502201010120161.6厚膠紫外光斜入射背面光刻工藝的光強(qiáng)分布模擬方法503201010101998.6用于電子束光刻膠PMMA的顯影液及其配制方法504201010001541.8光刻膠殘留物去除用組合物505201010121984.0一種利用正性光刻膠制作底柵型FED下板圖形的方法506201010102016.5在電子束曝光前對(duì)涂有光刻膠的晶片進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)的方法507200910214

8、063.6超支化聚酯微光學(xué)光刻膠508201010106316.0厚膠介質(zhì)補(bǔ)償紫外光斜入射光刻工藝的光強(qiáng)分布模擬方法509200780100584.8顏料分散組合物、用于彩色濾光片的包含其的光刻膠組合物、及使用其的彩色濾光片510201010138150.0全息凹面光柵負(fù)一級(jí)光刻膠監(jiān)測(cè)系統(tǒng)511200910046426.X酯交換合成光刻膠單體碳剛性骨架結(jié)構(gòu)丙烯酸酯類化合物的方法512200910146319.4在邊緣光刻膠去除過(guò)程中減少

9、晶圓缺陷的方法及晶圓結(jié)構(gòu)513200880109166.X一種光刻膠清洗劑514200880114601.8用于剝除光刻膠的化合物515201010141540.3曝光機(jī)臺(tái)、陣列基板、圖案化薄膜、光刻膠層及形成方法516200910081225.3以光刻膠為掩膜對(duì)二氧化硅進(jìn)行深刻蝕的方法517200910053241.1雙柵極氧化層制作工藝中光刻膠層的重做工藝518200910053501.5鈍化光刻膠表面的方法以及光刻方法519200