納米壓印光刻膠的設(shè)計(jì)、合成及性能.pdf_第1頁
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1、紫外壓印光刻膠的界面性質(zhì)對(duì)壓印圖形的復(fù)制精度、圖形缺陷率、分辨率等性能有很大的影響。本論文設(shè)計(jì)并制備了以添加含硅、含氟類的化合物來改善光刻膠界面性質(zhì)的紫外壓印用光刻膠，使其具有良好的脫模性能。
　　 首先，本論文中通過一系列實(shí)驗(yàn)篩選，得到具有較好的壓印性能含MA0735的光刻膠體系。該體系具有低粘度(5.86-16.94cP)、低體積收縮率(2.80-6.14％)、低表面能(20.1-32.1 mJ/m2)、高楊氏模量(2.95

2、6-3.263GPa)、高硬度(142-220MPa)以及較高的熱穩(wěn)定性(342-352℃)，將其應(yīng)用于壓印實(shí)驗(yàn)中，脫模效果較好、分辨率較高的納米級(jí)圖案。
　　 探索了以γ二甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷為原料合成側(cè)鏈均為甲基丙烯酰氧基團(tuán)的倍半硅氧烷，通過合成工藝的優(yōu)化以較高產(chǎn)率得到了預(yù)期的低聚物，該產(chǎn)物具有較窄的分子分布以及較好的晶型結(jié)構(gòu)。將其制備成光固化壓印型的光刻膠，固化后的膜具有良好的機(jī)械性能和表面性能。壓印實(shí)驗(yàn)表明，含

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