電子顯微鏡作業(yè)答案

1、班級(jí)姓名學(xué)號(hào)1電子顯微鏡作業(yè)電子顯微鏡作業(yè)一、判斷題一、判斷題1俄歇電子是從距樣品表面幾個(gè)埃深度范圍內(nèi)發(fā)射的并具有特征能量的二次電子。（√）2透鏡光闌的作用是限制掃描電子束入射試樣時(shí)的發(fā)散度。（）3改變掃描線圈鋸齒波的振幅可改變掃描速度，改變掃描線圈電源鋸齒波的頻率可改變放大倍數(shù)。（）4掃描電子顯微鏡分辨本領(lǐng)的測(cè)定方法有兩種：一種是測(cè)量相鄰兩條亮線中心間的距離，所測(cè)得的最小值就是分辨本領(lǐng)；另一種是測(cè)量暗區(qū)的寬度，測(cè)得的最小寬度定為分辨本

2、領(lǐng)。（）二、選擇填空二、選擇填空1.電鏡的分辨本領(lǐng)主要取決于（A）的分辨本領(lǐng)。A物鏡；B中間鏡；C投影鏡；D長(zhǎng)磁透鏡2增加樣品反差的方法經(jīng)常有（A、B））。A染色；B重金屬投影；C超薄切片；D復(fù)型3（B）是用來(lái)觀察聚合物表面的一種制樣方法。A“超薄切片”；B“復(fù)型”技術(shù)；C染色；D支持膜4（A）是研究本體高聚物內(nèi)部結(jié)構(gòu)的主要方法。A“超薄切片”；B“復(fù)型”技術(shù)；C染色；D支持膜5入射電子中與試樣表層原子碰撞發(fā)生彈性散射和非彈性散射后從試

3、樣表面反射回來(lái)的那部分一次電子統(tǒng)稱為（B）電子。A二次電子；B背散射電子；C反沖電子；D透射電子。6掃描電子顯微鏡的（C）是利用對(duì)試樣表面形貌敏感的物理信號(hào)作為調(diào)制信號(hào)得到的一種像襯度。A散射襯度；B衍射襯度；C表面形貌襯度；D原子序數(shù)襯度。7（A）是從距樣品表面10nm左右深度范圍內(nèi)激發(fā)出來(lái)的低能電子。A二次電子；B背散射電子；C吸收電子；D透射電子。8掃描電子顯微鏡圖像的襯度原理有（B）。（a）散射襯度（b）表面形貌襯度（c）衍射襯

4、度（d）相位襯度9下面的圖中（C）的二次電子信號(hào)最大。班級(jí)姓名學(xué)號(hào)3品上。9人眼的分辨本領(lǐng)為（0.1~0.2）mm，光學(xué)顯微鏡分辨本領(lǐng)的極限為（200nm）。四、問(wèn)答題四、問(wèn)答題1為什么載網(wǎng)上要覆蓋一層支持膜為什么一般都采用碳膜作支持膜其厚度一般是多少答案：（1）透射電鏡的試樣載網(wǎng)很小，其直徑一般約為3mm，所以試樣的橫向尺寸一般不應(yīng)大于1mm。常規(guī)透射電鏡的加速電壓為100kV。在這種情況下，電子穿透試樣的能力很弱。因此聚合物試徉必須

5、很薄，最厚不得超過(guò)100~200nrn。這樣薄的試樣放在一個(gè)多孔的載網(wǎng)上容易變形，尤其是當(dāng)試樣橫向尺寸只有微米量級(jí)時(shí)（比網(wǎng)眼還小很多），更是如此。因此必須在載網(wǎng)上再覆蓋一層散射能力很弱的支持膜。（2）因?yàn)樘嫉脑有驍?shù)低，碳膜對(duì)電子束的透明度高，又耐電子轟擊，其強(qiáng)度、導(dǎo)電、導(dǎo)熱和遷移性均很好。（3）20nm2制樣時(shí)采用投影技術(shù)的目的是什么操作時(shí)要特別注意的是什么一般所選的投影角范圍是多少在什么場(chǎng)合下切忌使用投影技術(shù)答案：（1）有機(jī)高分子材

6、料在利用質(zhì)量厚度襯度成像時(shí)，因?yàn)樗鼈儗?duì)入射電子的散射能力很弱，使得圖像的襯度很差。利用重金屬投影的方法可使襯度大為提高。利用真空鍍膜的方法把重金屬以一定的角度沉積到試樣表面上去。當(dāng)試樣表面存在凹凸起伏的表面形貌時(shí)，面向蒸發(fā)源的區(qū)域沉積上一層重金屬，而背向蒸發(fā)源的區(qū)域會(huì)凸出部分擋掉，沉積不上重金屬，從而形成對(duì)電子束透明的“陰影區(qū)”，使圖像反差大增，立體感加強(qiáng)。（2）①投影只對(duì)支持膜上側(cè)的試樣起作用。如果制樣時(shí)有試樣粘附在靠銅網(wǎng)一側(cè)的支持膜

7、上，則不會(huì)有陰影產(chǎn)生，因此不同采用投影的方式提高襯度。②由超薄切片得到的試樣不能用投影的方法，因?yàn)榍衅谋砻婵傆械逗?，投影以后?huì)引入假象。③投影材料的選擇和蒸發(fā)碳的多少要根據(jù)試樣表面狀況和對(duì)電子顯微像的要求而定。當(dāng)要顯示的細(xì)節(jié)尺寸在101nm量級(jí)時(shí)，常用鉻或金一鈕合金，蒸發(fā)量可以多一些。在要表現(xiàn)更小的細(xì)節(jié)時(shí)，可用鉑、鉑一銥、鉑一鍺或鉑一碳，投影的量也要少一些，使鍍層薄一點(diǎn)。（3）要根據(jù)試樣的表面狀態(tài)來(lái)選擇投影操作時(shí)的角度。對(duì)于粗糙的表面