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文檔簡介
1、論文研究了不同光照強(qiáng)度(全光照、75%光強(qiáng)、50%光強(qiáng)、25%光強(qiáng))對(duì)喜樹苗木生長、葉綠素含量、光合參數(shù)、熒光參數(shù)、保護(hù)酶系統(tǒng)、喜樹堿含量以及喜樹堿合成過程關(guān)鍵酶和基因表達(dá)量的影響。結(jié)果表明,75%光強(qiáng)最有利于喜樹的生長,而100%和25%光強(qiáng)則使喜樹的生長受到抑制;隨光照強(qiáng)度降低和處理時(shí)間的延長,喜樹堿合成過程相關(guān)酶TSB和TDC活性的增加,與之相應(yīng)的tsb、tdc1、tdc2基因表達(dá)也隨之增加,促進(jìn)喜樹堿含量的增加;50%光照水平下
2、,單位面積上的喜樹堿產(chǎn)量達(dá)到最高。研究結(jié)果為喜樹葉用園密度設(shè)置和光照強(qiáng)度的管理提供了理論依據(jù)。通過對(duì)各項(xiàng)指標(biāo)的分析和比較,主要研究結(jié)果如下:
?。?)不同光照強(qiáng)度下,喜樹的生長不同:75%光照喜樹生長最優(yōu);100%和25%光照強(qiáng)度下,生物量和苗高增長受到抑制。喜樹的葉面積的變化表現(xiàn)為喜樹幼苗的葉面積隨著光照強(qiáng)度的降低而增加。
(2)隨著光照強(qiáng)度的升高,喜樹葉片中chla、chlb、chl(a+b)和類胡蘿卜素含量均下降
3、,喜樹幼苗的光合參數(shù)(包括凈光合速率 Pn、氣孔導(dǎo)度Gs、蒸騰速率Tr)均呈上升趨勢,說明低光下喜樹葉片合成大量的葉綠素以便吸收更多光能,促進(jìn)光合作用;但在全光照條件下,光合參數(shù)(包括凈光合速率Pn、氣孔導(dǎo)度Gs、蒸騰速率Tr)略有下降,胞間CO2濃度Ci也有所升高,說明過高的光強(qiáng)引起的光能過剩促進(jìn)了葉綠素的降解。而75%光照條件下,有較高的Fv/Fm、Fo、Fm、ΦPSⅡ、qP的值,說明此時(shí)喜樹葉片的光抑制程度和光缺乏現(xiàn)象得到緩解,使
4、喜樹幼苗在此時(shí)保持較高的PSⅡ光化學(xué)效率。
?。?)25%和全光照條件下,喜樹幼苗的REC、MDA含量以及超氧陰離子(O2.-)的產(chǎn)生速率和過氧化氫H2O2的含量較其他光照條件下高,說明此時(shí)植物受到光缺乏以及光抑制引起的傷害作用。且與全光照組相比,喜樹幼苗的SOD、CAT、POD的活性在75%光照下較低,在其他光照下較高,說明SOD、CAT和POD對(duì)清除喜樹體內(nèi)的活性氧有著重要作用,但當(dāng)傷害加強(qiáng)時(shí),POD、SOD和CAT,卻不能
5、完全清除植物體內(nèi)過多的活性氧。
?。?)光照強(qiáng)度影響著喜樹葉片氣孔和葉綠體的生長發(fā)育。過低和過高的光照強(qiáng)度都不利于氣孔和綠體的發(fā)育。低光強(qiáng)通過減少氣孔密度以減少光反應(yīng)中心的負(fù)擔(dān),高光強(qiáng)通過減少氣孔的開度減少水分的散失。而過低和過高的光強(qiáng)導(dǎo)致了葉綠體的變形以及類囊體薄膜結(jié)構(gòu)紊亂。
?。?)光照強(qiáng)度的降低和處理時(shí)間的延長促進(jìn)了次生代謝產(chǎn)物喜樹堿含量的增加,也引起與喜樹堿合成過程相關(guān)酶TSB和TDC活性的增加。與之相應(yīng)的TSB
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