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文檔簡(jiǎn)介
1、隨著磁頭行業(yè)的發(fā)展,為了得到更好的使用性能和可靠性,磁頭產(chǎn)品對(duì)清洗提出了更高的要求。第三代氯氟烴替代品之一—?dú)浞杨?lèi)化合物(HFEs)由于其優(yōu)良的物化性能、較小的環(huán)境污染使得它在清洗、制冷等行業(yè)中有著廣闊的應(yīng)用前景。
本文從溶劑HFEs的分子結(jié)構(gòu)及其與其他較為典型的清洗溶劑作對(duì)比,來(lái)分析其應(yīng)用在磁頭行業(yè)清洗中的物理化學(xué)性能,討論了其物理化學(xué)性能對(duì)清洗產(chǎn)生的影響。
溶劑清洗包括溶劑浸泡清洗、溶劑超聲清洗和溶劑蒸汽清洗,
2、本文對(duì)溶劑HFEs作為溶劑清洗的清洗劑分別進(jìn)行浸泡清洗實(shí)驗(yàn)和超聲清洗實(shí)驗(yàn),并與水基清洗作對(duì)比,從而得出溶劑清洗的清洗機(jī)理,找到溶劑清洗在清洗效率方面與水基清洗比較的優(yōu)缺點(diǎn),對(duì)于溶劑蒸汽清洗主要從磁頭行業(yè)清洗工藝的角度進(jìn)行了理論的探討。
清洗參數(shù)與清洗效果有著直接的關(guān)系,其中最為主要的是超聲功率、超聲頻率、清洗溫度、清洗時(shí)間,本文通過(guò)實(shí)驗(yàn)得到其與清洗效果之間的關(guān)系,并從理論的角度解釋參數(shù)選擇的依據(jù),可以為工業(yè)清洗中清洗工藝的制定
3、及改進(jìn)提供理論依據(jù)。
在HFEs應(yīng)用在實(shí)際的清洗中,必須保證溶劑自身的各種參數(shù)如微觀臟污含量、水分子含量、pH值等處于合格的穩(wěn)定的水平,這樣才能保證其在工業(yè)清洗中長(zhǎng)期的應(yīng)用。本文主要對(duì)其在工業(yè)應(yīng)用時(shí)pH的變化進(jìn)行了研究,找到了其變化的原因,研究表明溶劑HFE71IPA在清洗機(jī)中應(yīng)用時(shí)各個(gè)缸中pH的變化是由于不同缸中溶劑的離子含量發(fā)生了改變,這一問(wèn)題可以通過(guò)添加外部蒸餾設(shè)備,將沸騰缸中溶劑定期的在外部蒸餾設(shè)備中進(jìn)行蒸餾后再注入清
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