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文檔簡(jiǎn)介
1、垂直掃描機(jī)構(gòu)是大角度離子注入機(jī)的一個(gè)非常關(guān)鍵的組件,它將高速直線運(yùn)動(dòng)從靶室外大氣環(huán)境傳遞到靶室內(nèi)高真空環(huán)境,使裝有晶片的靶盤高速升降運(yùn)動(dòng),形成離子束垂直方向按要求的高速機(jī)械掃描。
隨著器件工藝的發(fā)展,離子注入設(shè)備從傳統(tǒng)的多片高速旋轉(zhuǎn)靶發(fā)展到當(dāng)今的單晶片大角度注入靶,為不使晶片局部過(guò)熱,要求單晶片靶升降掃描速度高達(dá)數(shù)百毫米每秒,同時(shí),靶室真空度的好壞和靶室內(nèi)顆粒數(shù)量的多少是影響晶片成品質(zhì)量非常重要的因素。如果真空度達(dá)不到要求
2、,會(huì)導(dǎo)致離子束發(fā)散度變大、束流損失增大、產(chǎn)生中性束以及引起離子束的不純等危害;如果靶室顆粒數(shù)量超標(biāo),則會(huì)使晶片形成缺陷,當(dāng)缺陷密度達(dá)到一定值時(shí),元器件就會(huì)失效。
本文根據(jù)大角度離子注入機(jī)的垂直掃描結(jié)構(gòu)方案和有關(guān)參數(shù),對(duì)垂直掃描機(jī)構(gòu)的氣體軸承和真空差分密封部分進(jìn)行了設(shè)計(jì)和性能計(jì)算。主要進(jìn)行了氣體潤(rùn)滑基礎(chǔ)理論研究,建模與計(jì)算方法的闡述,氣體軸承主要結(jié)構(gòu)參數(shù)選定,性能分析和方法準(zhǔn)確性的驗(yàn)證。文中沒(méi)有采用傳統(tǒng)的方法去求解雷諾方程,
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