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1、本論文研究了NbSi2及Nb5Si3-66vol%NbSi2鈮硅化合物的氧化行為及機(jī)理。利用原位X射線衍射分析了氧化物的結(jié)構(gòu),借助掃描電鏡觀察了氧化物形貌及能譜儀分析氧化物的成分分布,利用稱重法獲得氧化動(dòng)力學(xué)曲線,并進(jìn)行了必要的理論分析。氧化行為表明,隨著溫度升高鈮硅化合物的氧化速度增加,隨著含Si量增加鈮硅化物的抗氧化能力增大。鈮硅化物NbSi2在700℃溫度下發(fā)現(xiàn)有明顯的Pest現(xiàn)象,而Nb5Si3-66vol%NbSi2則不發(fā)生
2、此類現(xiàn)象。觀察氧化膜形貌發(fā)現(xiàn),NbSi2的700℃氧化膜凹凸不平、碎裂成花瓣?duì)钋页适杷啥嗫滋卣鳎?00℃ 氧化膜保持連續(xù)、完整及致密。Nb5Si3-66vol%NbSi2的700℃時(shí)氧化膜雖出現(xiàn)裂紋即不連續(xù),但整體上比較完整及致密。原位X射線衍射分析證實(shí),在Nb5Si3-66vol%NbSi2的氧化初期,表面Nb5Si3和NbSi2同時(shí)參與氧化,其中 Nb5Si3的氧氣反應(yīng)更為劇烈。當(dāng)氧氣超過一定時(shí)間后,Nb5Si3和NbSi2的含
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