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文檔簡介
1、ZnO是一種直接帶隙的第三代寬禁帶半導(dǎo)體,因其在室溫下約為3.37eV的禁帶寬度和高達60meV的激子結(jié)合能,而受到了廣泛關(guān)注,被認(rèn)為是有望取代GaN的新一代短波長光電子材料。隨著ZnO半導(dǎo)體材料制備研究不斷取得進展,ZnO基器件特別是光電子器件的研究取得了較大進展。但是ZnO基光電子器件仍未達到實用化水平,其發(fā)展遇到了瓶頸,因而需要對ZnO材料的基本問題進行深入研究,如ZnO中的雜質(zhì)和缺陷,ZnO的生長設(shè)備等等。其中ZnO的雜質(zhì)和缺陷
2、研究尤為重要,因為雜質(zhì)和缺陷是影響材料性質(zhì)的重要因素,甚至是決定性因素。 基于這樣的背景,本論文著重研究了ZnO中的幾種本征缺陷和摻雜與發(fā)光的關(guān)系,以及它們在ZnO發(fā)光中起到的作用。主要工作如下: 首先,創(chuàng)新性地運用Zn擴散摻雜方案,研究了Zn擴散摻雜所形成的缺陷及其對ZnO發(fā)光性質(zhì)的影響。通過對實驗結(jié)果的分析得出:1)Zn摻雜在ZnO單晶中形成的Zn填隙(Zni)缺陷構(gòu)成離化能約為50meV的施主,是非故意摻雜ZnO的
3、n型導(dǎo)電的主要來源:2)Zni極大地增強了ZnO紫外發(fā)光強度,在ZnO的室溫紫外發(fā)光中起到重要作用。而Zn擴散形成的鋅反位缺陷(Zno)則對可見光產(chǎn)生貢獻;3)在此基礎(chǔ)上首次提出自由激子和施主耦合發(fā)光的新概念,為分析ZnO室溫紫外發(fā)光提供了依據(jù)。 其次,利用氣氛、溫度等方法調(diào)控缺陷的形成,研究ZnO中各種本征缺陷,如Zno、Vo、Ozn等對ZnO可見發(fā)光的影響。實驗表明,ZnO的可見發(fā)光是多種本征缺陷共同作用的結(jié)果。通過控制熱處
4、理條件(溫度和氣氛),可以有效改變不同本征缺陷的形成幾率,而使ZnO表現(xiàn)出不同的可見發(fā)光性質(zhì)。系統(tǒng)研究ZnO的本征缺陷對于開展ZnO的應(yīng)用研究具有重要基礎(chǔ)作用。 最后,研究Ag摻雜對ZnO光電性質(zhì)的研究。實驗表明,Ag進入ZnO后占據(jù)氧位,形成Ag。施主缺陷,在Raman光譜中觀察到相應(yīng)的局域振動模,而且在ZnO禁帶中引入新的缺陷能級。 本論文共有6章。 第一章介紹ZnO的晶體結(jié)構(gòu)、基本物理性質(zhì)、制備方法和應(yīng)用前
5、景,對固體中的缺陷進行了概述,并提出本論文的工作要點。 第二章利用高壓擴散方法研究了Zn擴散摻雜對ZnO單晶中缺陷的影響及其對ZnO單晶紫外發(fā)光的影響。結(jié)果表明,適合Zn摻雜條件可以使ZnO紫外發(fā)光增強近一個數(shù)量級,并解釋了產(chǎn)生這一現(xiàn)象的原因,并提出了自由激子和鋅間隙施主耦合發(fā)光的新概念。 第三章研究了ZnO變溫PL譜中近帶邊發(fā)射峰峰位隨溫度變化曲線的規(guī)律,重點研究自由激子和Zn間隙施主耦合發(fā)光的機理。 第四章利
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