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文檔簡介
1、電子散斑干涉技術(shù)簡稱ESPI(Electronic Speckle Pattern Interferometry),是以激光技術(shù)、視頻技術(shù)、計(jì)算機(jī)圖象處理技術(shù)、全息干涉和散斑干涉技術(shù)等相結(jié)合的一種現(xiàn)代光學(xué)測(cè)量技術(shù),被廣泛應(yīng)用于無損檢測(cè)(NDT),光學(xué)粗糙表面位移,變形測(cè)量,振動(dòng)分析等領(lǐng)域。它具有全場(chǎng)、非接觸、高精度、高靈敏度、抗干擾能力強(qiáng)和工作穩(wěn)定可靠等優(yōu)點(diǎn),一直受到人們普遍關(guān)注。電子技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、激光技術(shù)的發(fā)展極大地促使了散斑計(jì)量
2、技術(shù)的發(fā)展,使散斑計(jì)量技術(shù)向?qū)崟r(shí)、高速及自動(dòng)化方向發(fā)展并被廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)中。在研究和生產(chǎn)領(lǐng)域,微結(jié)構(gòu)的測(cè)試都起著十分重要的作用。目前眾多測(cè)試方法大多針對(duì)光學(xué)平滑表面,這給微結(jié)構(gòu)的科學(xué)研究和生產(chǎn)測(cè)試等應(yīng)用都帶來了很大限制。
本文在充分調(diào)研的基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)并組建了結(jié)合Linnik顯微干涉結(jié)構(gòu)的顯微散斑干涉測(cè)試系統(tǒng),通過反射率較高表面和散射表面的形貌測(cè)量對(duì)系統(tǒng)的性能進(jìn)行驗(yàn)證,并對(duì)散射表面的變形進(jìn)行了初步的測(cè)試研究。本文的主要工
3、作包括以下幾個(gè)方面:
⑴對(duì)國內(nèi)外MEMS測(cè)試方法和散斑測(cè)試技術(shù)做出充分的調(diào)研,著重研究了電子散斑干涉技術(shù)在微結(jié)構(gòu)幾何量測(cè)量尤其是表面變形方面的應(yīng)用;
⑵設(shè)計(jì)并組建了新的顯微散斑干涉系統(tǒng),將Linnik顯微干涉結(jié)構(gòu)布置在一個(gè)垂直于光學(xué)平臺(tái)的水平面內(nèi),消除了因被測(cè)表面和參考表面的旋轉(zhuǎn)帶來的系統(tǒng)誤差;
⑶完成了對(duì)表面反射率較高和表面散射的微結(jié)構(gòu)的測(cè)量,進(jìn)行系統(tǒng)的調(diào)試和評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn),得到較好的表面形貌測(cè)量實(shí)
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