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文檔簡介
1、高熔點、高硬度、高斷裂韌度的ZrB2基陶瓷在超高溫環(huán)境中得到了廣泛應(yīng)用。選用具有高溫軟塑性、良好抗氧化性及較低熱導(dǎo)率的MoSi2 作為第二相制備ZrB2-MoSi2 超高溫陶瓷,可解決一般ZrB2基陶瓷的諸多難題。
1750 ℃放電等離子體燒結(jié)最適合的保溫時間和燒結(jié)壓強分別為10min和50MPa。表觀致密度隨MoSi2的增加而升高,MoSi2 大于15vol.%后表觀致密度均在99%以上??箯潖姸扰c硬度隨MoSi2的增加
2、先增后減,最高值分別為441.29MPa和17.62GPa ;斷裂韌度隨MoSi2的增加先減后小幅增大,最高為5.76MPam 1/2 ;電導(dǎo)率在MoSi2 超過15vol.%后逐漸降低,最高為7.12×10 6 -1 ·m -1。MoSi2 在15vol.%至35vol.%的陶瓷綜合性能較好。
1860 ℃氬氣保護下保溫30min 無壓燒結(jié)ZrB2-MoSi2 陶瓷,表觀致密度及各項性能較低,且均隨MoSi2的增加而上升
3、,含40vol.%MoSi2的陶瓷表觀致密度(98.23%)、抗彎強度(280.81MPa )、硬度(13.25GPa )及電導(dǎo)率(5.52×10 6 -1 ·m -1 )均為最高。
在1820 ℃、35MPa、30min 保溫下熱壓燒結(jié)ZrB2-MoSi2 陶瓷,由于高密度MoB的生成,其表觀致密度略超過100%。熱壓燒結(jié)陶瓷性能略高于SPS 制備陶瓷。MoSi2 在20vol.%至30vol.%時陶瓷各項性能相近,抗彎
4、強度、硬度、斷裂韌度及電導(dǎo)率最高分別為465.94MPa、18.30GPa、4.74 Mpam 1/2 及7.11×10 6 -1 ·m -1。
三種方法致密化所需最低MoSi2含量不同,致密化溫度均比單相ZrB2 低300 ℃以上,致密化陶瓷均形成了核(ZrB2 )-殼(MoSi2、MoB )結(jié)構(gòu),晶粒之間存在少量氧化物和氣孔。
ZrB2-MoSi2 陶瓷在600 ℃開始氧化。氧化溫度升高,陶瓷先增重后失重
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