光刻機工件臺與掩模臺同步控制算法研究及實現(xiàn).pdf

1、步進掃描光刻機的研發(fā)工作是國內(nèi)的重大科技專項之一,本文以光刻機工件臺和掩模臺控制系統(tǒng)研究為背景,為滿足曝光掃描時各個子系統(tǒng)的任務(wù)調(diào)度、大量數(shù)據(jù)傳輸和工件臺與掩模臺的同步偏差控制任務(wù)而進行了下述工作。
　　本文首先對光刻機發(fā)展進行了綜述,指出了光刻機技術(shù)發(fā)展中的主要節(jié)點;重點介紹了光刻機同步控制技術(shù)方面的進展。
　　其次,本文分析了步進式掃描曝光的工作流程,根據(jù)任務(wù)的同步調(diào)度需要把曝光涉及到的子系統(tǒng)分為同步主系統(tǒng)和同步從系統(tǒng),

2、根據(jù)工作特點的不同把曝光過程分為五個狀態(tài),同步主系統(tǒng)可以通過內(nèi)部狀態(tài)的轉(zhuǎn)換對同步從系統(tǒng)進行任務(wù)調(diào)度即控制觸發(fā)同步從系統(tǒng)的各種行為。
　　根據(jù)硬件連接關(guān)系和傳輸數(shù)據(jù)類型的不同,設(shè)計數(shù)據(jù)和狀態(tài)標(biāo)志傳輸機制,利用VME總線的用戶自定義接口定義了一種同步控制總線,以完成同步主系統(tǒng)和同步從系統(tǒng)間的信息交換需求,采用FIFO隊列配合命令狀態(tài)定時器的方式在同步控制總線上廣播同步狀態(tài)和發(fā)送數(shù)據(jù)信息。
　　參考同步控制主系統(tǒng)的功能需求,設(shè)計并

3、制作了同步控制器硬件即同步控制卡,進行了程序的編寫、仿真及板卡調(diào)試等工作,完成了同步控制卡與下位機間的數(shù)據(jù)傳輸、中斷響應(yīng)測試,實現(xiàn)了同步主系統(tǒng)和從系統(tǒng)間的時序發(fā)送測試,測試結(jié)果達到設(shè)計指標(biāo)。
　　最后,分析了工件臺和掩模臺系統(tǒng)的運動特性后,本文采用主從同步控制策略,基于重復(fù)控制思想,設(shè)計了同步控制算法,使工件臺和掩模臺的同步偏差收斂到和工件臺和掩模臺相同的運動精度等級即納米級,控制效果通過重復(fù)控制器的學(xué)習(xí)作用逐漸改善,得到了比常規(guī)