基于連續(xù)可見激光直寫研制突破衍射極限納米孔道的實驗研究.pdf

1、本論文主要開展了“遠場光學超分辨顯微成像綜合分析系統(tǒng)”關(guān)鍵技術(shù)的攻關(guān)，進行了連續(xù)激光直寫簡單微納復合結(jié)構(gòu)的制備工藝的研究?；谶B續(xù)激光直寫技術(shù)制備突破衍射極限限制的納米孔道的核心思想是利用具有中心暗點的匯聚光斑引發(fā)聚合物超低單光子吸收，進而實現(xiàn)了尺寸小于衍射極限的納米孔道的制備。我們利用自主搭建的532nm連續(xù)激光直寫系統(tǒng)成功制備出了最小直徑可達1/10入射光波長的納米孔道及其陣列結(jié)構(gòu)。
　　論文首先闡述了“遠場光學超分辨顯微成像

2、綜合分析系統(tǒng)”中圓環(huán)光束的調(diào)制與兩束激光的同軸耦合等關(guān)鍵技術(shù);詳細介紹了系統(tǒng)其各個功能模塊的構(gòu)建、集成。其次，討論了SU-8光刻膠對不同激光輻射的吸收特性及機理，詳細描述了SU-8光刻膠樣品的制備工藝及流程，模擬計算了聚焦光斑的空間光強分布，并闡述了利用連續(xù)激光研制突破衍射極限限制的納米孔道結(jié)構(gòu)的原理。最后，利用SEM表征了納米孔道的形貌與尺寸，總結(jié)了曝光時間、功率以及顯影時間等幾個重要因素對納米孔道尺寸和質(zhì)量的影響。分析討論了影響納米