化學氣相沉積設備尾氣過濾系統(tǒng)的研究與分析.pdf

1、第一、二代半導體材料為工業(yè)進步、社會發(fā)展做出了貢獻，如今第三代新型半導體材料以SiC、GaN為代表憑借優(yōu)異的性能正在迅速崛起。關于新型半導體材料的相關制備工藝是學術及工業(yè)界的關注熱點，與制備工藝密切有關的化學氣相沉積（CVD）設備的研發(fā)同樣受到重視。由于制備反應過程中復雜的氣體流動及尾氣系統(tǒng)對反應腔內部壓力的控制直接影響著材料的生長質量、厚度均勻性等，且發(fā)生的復雜的氣體化學反應及砷、磷等氫化物具有較強的毒性，對設備氣路系統(tǒng)尤其是尾氣系統(tǒng)

2、提出了很高的要求。
　　本文首先簡要介紹了MOCVD設備在LED半導體產業(yè)中的應用，以及設備整體組成系統(tǒng)。重點介紹了氣路系統(tǒng)及其子系統(tǒng)尾氣系統(tǒng)，結合氣路工作原理圖，通過對尾氣系統(tǒng)工作原理進行分析，提出關鍵技術：尾氣處理、對反應腔內部壓力有影響的相關元件選取和設計。
　　其次，對尾氣處理的關鍵部件--顆粒過濾器進行仿真分析?；谟嬎懔黧w力學（CFD）的基本理論，建立顆粒過濾器濾芯數(shù)學模型，分析濾芯內部氣體流場分布情況。并在此模