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文檔簡介
1、利用高真空磁控濺射鍍膜機(jī)制備了Mn原子含量在50~55at%的NiMn薄膜,并在此基礎(chǔ)上沉積了磁性雙層膜。分析了濺射氣壓、濺射功率、基體負(fù)偏壓、靶基距、基體溫度等濺射工藝參數(shù)對薄膜成分的影響特點(diǎn),并研究了常規(guī)退火處理和激光快速退火處理對樣品的交換偏置場(Hex)和矯頑力(Hc)等磁性能的影響規(guī)律和作用機(jī)理。研究結(jié)果表明:
對于NiMn薄膜而言,隨著濺射氣壓的升高,Mn原子含量先降低后升高,并在0.8Pa達(dá)到最大值后逐漸穩(wěn)定;隨
2、著基體負(fù)偏壓的升高,Mn原子含量呈下降趨勢;隨著靶基距的增大,Mn原子含量逐漸升高,并在55mm左右趨于穩(wěn)定;隨著基片溫度的升高,Mn含量逐漸增加,在150℃時(shí)達(dá)到最大值后逐漸穩(wěn)定;濺射功率對Mn原子含量影響效果不明顯。而NiFe薄膜的成分隨濺射條件的變化較小。
在兩種退火條件下,NiMn薄膜都能發(fā)生由γ相轉(zhuǎn)變?yōu)棣认嗟南嘧兊倪^程,并且Hex大小與θ相的轉(zhuǎn)變量呈正相關(guān)。在常規(guī)退火處理下,θ相的轉(zhuǎn)變量隨著退火溫度、退火時(shí)間變化,在
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