退火處理對FeCoB-SiO-,2-磁性納米膜電磁性能的影響.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、含有Fe、Co基的復(fù)合納米膜材料具有高磁導(dǎo)率、高損耗等特點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)微波的寬頻帶吸收,是一類具有很大發(fā)展?jié)摿Φ男乱淮ú牧?。退火處理是FeCoB-SiO2磁性納米膜制備工藝中的一個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié),隨著人們對磁性薄膜電磁性能的要求越來越高,退火處理成為改善納米磁性膜性能的重要手段之一。
   本文主要研究了GHz高頻應(yīng)用的磁性納米膜經(jīng)過不同退火條件處理前后,電磁性能的變化規(guī)律。通過比較和分析制備樣品經(jīng)過退火處理后的電磁性能曲線和理想材料

2、的模擬曲線,制定出最佳退火條件。
   根據(jù)薄膜樣品制備及熱處理方法,分析了FeCoB-SiO2磁性納米膜的濺射制備及真空退火處理工藝,改善了實(shí)驗(yàn)方案。結(jié)合已有的實(shí)驗(yàn)條件,建立了小尺寸薄膜樣品退火處理平臺,組裝了GZL-1200型管式真空退火爐,建立了一系列合適的退火步驟,解決了薄膜樣品的固定及送取問題,排除了升溫過程中常見的設(shè)備故障。
   通過反復(fù)的改變退火條件,對典型樣品作了退火前后、不同退火時(shí)間和退火溫度處理下的

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