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1、雙工件臺(tái)作為光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)關(guān)鍵機(jī)構(gòu),在光刻機(jī)的硅片對(duì)準(zhǔn)、調(diào)平調(diào)焦和曝光刻片過程中起到了重要作用。六自由度微動(dòng)臺(tái)作為雙工件臺(tái)的核心部件,是系統(tǒng)達(dá)到納米級(jí)伺服定位精度的關(guān)鍵。本文主要針對(duì)雙工件臺(tái)六自由度微動(dòng)臺(tái)進(jìn)行運(yùn)動(dòng)控制研究。
首先,對(duì)雙工件臺(tái)結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)的分析,對(duì)宏動(dòng)臺(tái)模塊,微動(dòng)臺(tái)模塊和換臺(tái)模塊三個(gè)子模塊進(jìn)行控制系統(tǒng)設(shè)計(jì),最后分析了工件臺(tái)微動(dòng)臺(tái)系統(tǒng)的指標(biāo)要求,確定典型三階S曲線為微動(dòng)臺(tái)參考曲線。
其次,根據(jù)微動(dòng)臺(tái)的
2、幾何尺寸進(jìn)行六自由度測(cè)量解耦,將微位移傳感器的位置測(cè)量信息轉(zhuǎn)化成曝光點(diǎn)的六自由度位移信息;并將微動(dòng)臺(tái)動(dòng)力學(xué)耦合分為位置相關(guān)耦合和力相關(guān)耦合兩部分進(jìn)行動(dòng)力學(xué)解耦,在此基礎(chǔ)上構(gòu)建有效的微動(dòng)臺(tái)六自由度動(dòng)力學(xué)模,通過仿真實(shí)驗(yàn)證明六自由度動(dòng)力學(xué)解耦模型的有效性。
再次,針對(duì)微動(dòng)臺(tái)存在的干擾進(jìn)行分析,并設(shè)計(jì)了基于指數(shù)趨近律的傳統(tǒng)滑??刂扑惴▽?duì)干擾進(jìn)行抑制,通過仿真分析并與PID控制進(jìn)行對(duì)比,證明了滑??刂圃谝种聘蓴_方面的良好作用;針對(duì)傳統(tǒng)
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