簡介：點擊查看更多ZM-1鎂合金直接化學鍍鎳磷合金工藝及其性能研究.pdf精彩內容。

簡介：在NIP鍍層中添加PTFE自潤滑粒子，可獲得具有自潤滑性能的NIPPTFE復合鍍層，其較NIP鍍層摩擦系數(shù)降低，使化學鍍NIP鍍層使用壽命延長，用途拓寬。但因PTFE軟質粒子的加入，使NIPPTFE復合鍍層較NIP鍍層存在硬度低、孔隙率高、耐蝕性差等缺陷。因此，研究化學鍍NIPNIPPTFE雙鍍層的工藝及鍍層性能，對彌補NIPPTFE復合鍍層的性能缺陷，拓寬其應用范圍有重要意義。首先，研究了含硼酸的復合絡合劑對化學鍍鎳的影響。通過單因素試驗，優(yōu)選出硼酸與乳酸為復配組合。通過正交實驗，確定了其最佳復配量為乳酸10GL，硼酸15GL。在此復配條件下得到的NIP鍍層厚度提高，由XRD測試可知該NIP鍍層為非晶態(tài)結構EDS鍍層能譜測試表明其主要由NI、P組成，NI含量達9097％由SEM觀測可知該NIP鍍層均勻、致密完整電化學實驗及結合力實驗則分別表明其耐蝕性能、結合強度優(yōu)良。其次，通過單因素試驗，確定了陽離子型表面活性劑CTAB及非離子型表面活性劑OP10對化學復合鍍NIPPTFE中PTFE粒子的潤濕、分散效果較陰離子表面活性劑SDS更佳，兩者可復配使用。通過正交實驗確定了其最佳復配量為CTAB濃度20MGL，OP10濃度70MGL。由XRD測試可知在該復配條件下得到的NIPPTFE復合鍍層為非晶態(tài)結構EDS鍍層能譜測試表明其主要由NI、P、F、C組成，PTFE含量大約為641％且由SEM觀測該復合鍍層均勻、完整，結合力實驗也表明其結合強度優(yōu)良。此外，在表面活性劑研究基礎之上，通過正交實驗，得到優(yōu)化后的化學復合鍍NIPPTFE的最佳工藝條件為PTFE6GL，溫度88℃，PH52，攪拌頻率1MIN次。PTFE與NI、P合金共沉積，降低了鍍層的摩擦系數(shù)及磨損率，增強了鍍層的減摩、自潤滑性能。但NIPPTFE復合鍍層的硬度、孔隙率、耐蝕性能等均較NIP鍍層差。最后，將優(yōu)化后的化學鍍NIP與化學復合鍍NIPPTFE工藝結合，通過控制兩次施鍍的時間，可得厚度比不同的NIPNIPPTFE雙鍍層，由鍍層性能測試可知，該雙鍍層較NIPPTFE復合鍍層，不僅硬度提高，孔隙率降低，結合強度良好，且耐磨性能及耐蝕性能均有相應提高。由此表明化學鍍NIPNIPPTFE雙鍍層結構可彌補因PTFE軟質粒子加入而造成的NIPPTFE復合鍍層的性能缺陷。同時，確定了總鍍時120MIN，兩次施鍍的鍍時分配為底層化學鍍NIP，60MIN，面層化學復合鍍NIPPTFE，60MIN時，雙鍍層綜合性能最好。

簡介：化學鍍銅廣泛地應用于電子、航天、機械等領域。傳統(tǒng)的甲醛化學鍍銅工藝既污染環(huán)境又可對人體造成傷害，因此，開發(fā)一種新的無污染化學鍍銅技術顯得尤為迫切。以次磷酸鈉為還原劑的化學鍍銅體系能夠克服甲醛鍍銅體系的很多缺點，很有可能會代替甲醛體系。為此，本文針對次磷酸鈉化學鍍銅工藝進行了一系列的研究。首先從化學鍍銅的前處理工藝入手，除油工藝選擇除油液和超聲波技術相結合，使操作簡單化而效果倍增；對堿性高錳酸鉀粗化體系進行試驗優(yōu)化后得到工藝參數(shù)高錳酸鉀50GL1，氫氧化鈉30GL1，溫度70℃，粗化時間10MIN。另外，發(fā)明了一種以過氧化物為主要成分的新型粗化體系，其粗化效果比高錳酸鉀粗化體系的粗化效果更好，但是粗化機理卻不同。其次，對以次磷酸鈉為還原劑的化學鍍銅工藝進行了優(yōu)化，得到最合理的工藝參數(shù)為硫酸銅80GL1；硫酸鎳08GL1；亞鉄氰化鉀20MGL1；次磷酸鈉30GL1；檸檬酸鈉20GL1；硼酸30GL1；聚乙二醇600100MGL1；PH為9；溫度為75℃；得到的鍍層方阻小于001／□。隨后討論了次磷酸鈉體系中影響其鍍層沉積速率的參數(shù)，確定了次磷酸鈉體系還原化學鍍銅各個參數(shù)的控制范圍；然后對比了次磷酸鈉體系和甲醛體系，得出的結論是次磷酸鈉體系獲得的鍍層銅顆粒比較粗大，導電率較差，但機械強度較高；而甲醛體系獲得的鍍層銅顆粒粒度較細，但機械強度低些。最后探討了添加劑對次磷酸鈉鍍銅體系的影響。結果表明添加亞鐵氰化鉀和2，2ˊ聯(lián)吡啶都能夠顯著降低鍍層沉積速率，添加馬來酸對鍍層沉積速率的影響是先升后降；且馬來酸對鍍層沉積速率的降低程度沒有亞鐵氰化鉀和2，2ˊ聯(lián)吡啶大；添加了亞鐵氰化鉀、2，2ˊ聯(lián)吡啶和馬來酸都能夠顯著改善鍍層形貌，使鍍層由原來的粗糙、棕黑變得細致光亮；三種添加劑都可以不同程度地降低鍍層的孔隙率；添加亞鐵氰化鉀、2，2ˊ聯(lián)吡啶和馬來酸都能降低鍍層的電阻率，當添加劑濃度增大到一定程度時，將對鍍層電阻率的影響趨于平緩。

簡介：隨著科技和工業(yè)的發(fā)展，非金屬材料自身的性能難以滿足實際需要，需要進行金屬化處理。經金屬化處理，既可提高其力學性能及熱穩(wěn)定性，又增加導電特性，擴大使用范圍。陶瓷和滌綸織物金屬化技術眾多，化學鍍因具有操作簡單、成本低、鍍層均勻和結合力優(yōu)異等特點而應用廣泛。陶瓷和滌綸織物屬難鍍基材，其表面對化學鍍反應不具有催化活性。因此，需預先活化處理，以在其表面形成成核中心。傳統(tǒng)鈀活化工藝成本高、操作繁瑣。納米鎳粒子尺寸小、比表面積大、表面原子數(shù)較多和表面原子配位不飽和，具有較高的催化活性。利用鎳納米粒子活化非金屬基體，將傳統(tǒng)敏化活化兩步法簡化為鎳納米粒子活化一步法，降低工藝成本，提高生產效率，避免重金屬錫和鈀的使用，減少環(huán)境污染。采用液相還原法制備鎳納米粒子，通過正交試驗選擇最優(yōu)的鎳納米制備工藝，研究穩(wěn)定劑濃度對鎳納米粒子形貌和粒徑的影響。利用鎳納米粒子及鈀活化陶瓷基體，化學鍍銅。與鈀活化工藝相比，鎳納米粒子活化沉積速度更高，獲得的鍍層更為致密。探討鎳納米粒子活化機理。利用鎳納米粒子活化滌綸織物，通過單因素試驗，確定了化學鍍NIP和NICUP最佳工藝。對滌綸織物分別鎳納米粒子活化和鈀活化，后化學鍍。測試鍍層結合力、電阻率和耐蝕性，借助SEM、XRD和EDS分析鍍層的表面形貌、晶體結構和元素成分。同時將織物化學鍍NICUP鍍層同NIP鍍層進行性能對比。同時，研究檸檬酸鈉用量對NICUP鍍層表面形貌和成分的影響。相比于鈀活化工藝，鎳納米粒子活化織物NIP鍍層具有更為優(yōu)良的結合力、導電性和耐蝕性。兩種活化方式均可以得到完整、致密的低磷鍍層，呈現(xiàn)面心立方結構。NICUP鍍層的導電性能和耐酸腐蝕性能要優(yōu)于NIP鍍層，而NIP鍍層在中性介質和堿性介質中耐蝕性較好。NICUP鍍層較NIP鍍層表面平整度下降，結合力減小。NICUP合金鍍層呈現(xiàn)晶態(tài)結構。隨著檸檬酸鈉濃度的增加，鍍層中銅含量顯著增加，表面形貌由平滑變?yōu)榇植?，為鎳銅的互溶固溶體，電阻率明顯下降。

簡介：近來年，由于鎢酸鹽材料不同尋常的物理和化學性質，已被公認為先進的能源存儲系統(tǒng)，在超導體、固體燃料電池、濕度傳感器、電致變色設備、氣體傳感器、太陽能過濾器等領域有很廣泛的關注。本課題主要利用濕化學方法制備仲鎢酸鉀K10W12O4111H2O、鎢酸鋅ZNWO4和三氧化鎢鎢酸鋅WO3ZNWO4復合物并對其性能進行探索研究，并研究了制備工藝對產物的光催化降解性能和電化學性能的影響，結果如下1利用WO3及KOH作為原料，在WK140、PH6、T180C、T12H、沒有模板劑的水熱條件下成功制備了棒狀仲鎢酸鉀K10W12O4111H2O納米材料，此條件下產物直徑約為50150NM且長度約為200800NM。對產物進行光催化性能測試可知，K10W12O4111H2O在500W紫外光的照射下50MIN時，最多可以降解75％的亞甲基藍MB有機染劑。對棒狀仲鎢酸鉀納米材料做電化學性能測試可知，樣品具有較高的放電容量，為320MAHG1，在五個循環(huán)周期后放電容量逐漸穩(wěn)定在110MAHG1左右，說明了K10W12O4111H2O作為鋰離子電池負極材料具有一定的循環(huán)穩(wěn)定性。2以仲鎢酸鉀K10W12O4111H2O和醋酸鋅ZNCOOCH322H2O作為反應物，利用水熱方法制備ZNWO4納米材料。在180C，WK摩爾比為11時制備了直徑在2050NM范圍內的納米ZNWO4顆粒，并且此樣品在60MIN紫外光照射下對亞甲基藍的降解率最高可達到90％左右。3以仲鎢酸鉀K10W12O4111H2O和醋酸鋅ZNCOOCH322H2O作為反應物，利用微波水熱方法制備ZNWO4納米材料。在180C條件下生成了棒狀K037WO3和顆粒狀ZNWO4的混合物，并且隨著溫度在120200C的范圍內升高時，納米ZNWO4顆粒逐漸增加，團聚情況也隨之增加。對其進行光催化性能測試可知，樣品在暗反應階段具有很強的吸附性，從而使得光催化性能并不顯著，因此光催化降解性能還有待進一步優(yōu)化。4利用棒狀納米材料K10W12O4111H2O作為前驅體與ZNCH3COO2溶液混合，采用拓撲結構轉變的方法原位合成出WO3ZNWO4復合物，且對產物的光催化性能做了初步研究。實驗表明此方法制備的復合物由納米棒狀的ZNWO4和尺寸為20100NM的不規(guī)則顆粒狀WO3組成，在70MIN的模擬太陽光照射時，WO3和ZNWO4質量比為5WT％的WO3ZNWO4HT樣品對亞甲基藍的降解率為95％。

簡介：電子科技大學UNIVERSITYOFELECTRONICSCIENCETECHNOLOGYOFCHINA碩士學位論文MASTERTHESIS（電子科技大學圖標）論文題目電化學工作站控制模塊的設計與實現(xiàn)電化學工作站控制模塊的設計與實現(xiàn)學科專業(yè)檢測技術與自動化裝置檢測技術與自動化裝置學號201121250201作者姓名余雷聰余雷聰指導教師劉強劉強教授教授分類號密級UDC注1學位論文電化學工作站控制模塊的設計與實現(xiàn)電化學工作站控制模塊的設計與實現(xiàn)（題名和副題名）余雷聰余雷聰（作者姓名）指導教師劉強劉強教授電子科技大學電子科技大學成都（姓名、職稱、單位名稱）申請學位級別碩士碩士學科專業(yè)檢測技術與自動化裝置檢測技術與自動化裝置提交論文日期20140526論文答辯日期20140529學位授予單位和日期電子科技大學電子科技大學2014年06月日答辯委員會主席評閱人注1注明國際十進分類法UDC的類號。

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簡介：印制線路板PCB的銅質焊盤表面容易形成氧化層，使電阻變大，且易與焊料（特別是含錫的）形成金屬間互化物IMC，這種IMC易發(fā)生脆性斷裂，嚴重影響焊接可靠性。為了限制或者消除IMC的存在，在銅與焊料的界面之間加入阻擋層。目前常常采用化學鍍鎳浸金的表面處理工藝，但鍍鎳層具有較大的空隙率，且金沉積的顆粒較大，就需要較厚的鎳層和金層來減少空隙同時，金容易對鎳層造成過度腐蝕，存在“黑盤”的風險。本文用化學鍍的方法得到了致密的非晶態(tài)鎳鈀磷合金鍍層，對比研究了以此鍍層為阻擋層的兩種方法1直接在銅表面上化學鍍鎳鈀磷合金鍍覆層，簡稱化學鍍鎳鈀合金工藝ENEP2在銅表面先鍍層薄鎳，再化學鍍鎳鈀磷合金鍍層，簡稱化學鍍鎳鎳鈀合金工藝ENENEP。由于鈀顆粒細小，兩種工藝所得鍍層比較致密、孔隙率低，外觀呈亮白色，可直接用于焊接。同時底層NI不易發(fā)生氧化，可避免“黑盤”問題的出現(xiàn)。通過SEM、EDS、XRD、X射線熒光測厚儀以及電化學工作站，研究了氯化鎳、氯化鈀、乙二胺、氨水、次磷酸鈉、溫度以及PH等因素對化學鍍鎳鈀磷合金鍍層成分、表面形貌、沉積速率、鍍層結構的影響，鍍層性能通過結合力試驗、中性鹽霧試驗和可焊性試驗進行測試。經過正交實驗優(yōu)化得到鍍液基礎配方及工藝條件為NICL26H2O12GL，PDCL201GL，NAH2PO2H2O6GL，乙二胺EN9MLL，氨水7MLL，氯化銨3GL溫度65～70℃，PH85～90。選取了具有代表性的典型添加劑，考擦其對鍍液穩(wěn)定性、鍍層孔隙率及沉積速率的影響，最終得到通過正交實驗優(yōu)化的添加劑組合為二氧化硒7MGL、硫酸銅15MGL、三氯化鐠7MGL。所得鍍層表面平整，顆粒大小均勻，結晶細致，無明顯的氣孔和裂紋，鍍層中鎳鈀磷含量分別為NI8519％、PD625％、P856％，各元素分布均勻通過調節(jié)PH及鍍液中鎳鹽與鈀鹽的比例，可以控制鍍層中PD的含量，結果表明在PH為85的鍍液中隨著鈀鹽與鎳鹽摩爾比從10增加到100，鍍層中鈀含量可控范圍為4～50WT％NIPDP合金鍍層的耐蝕性、可焊性優(yōu)于化學鎳層，合金中鈀含量越多，鍍層腐蝕傾向越小。采用線性電勢掃描的方法，以銅電極和鎳磷電極為工作電極，研究了NIP、PDP以及NIPDP合金的陰極極化曲線，并探討了各添加劑對陰極沉積過程的影響。發(fā)現(xiàn)鈀離子可能是通過促進次磷酸根氧化來催化鎳、鈀以及它們合金的沉積行為的，在NIPDP合金沉積的過程中，同時伴隨著鎳與鈀置換反應的發(fā)生。鈀會促進鎳的還原沉積，鎳對鈀的沉積起抑制作用。

簡介：化學鍍NIWP是在化學沉積NIP的基礎上，通過加入W而獲得，其具有更為優(yōu)良的耐蝕性、耐磨性等性能?；瘜W鍍NIWP鍍層可以有效地延長材料的使用壽命，并帶來更多的經濟效益。本文主要研究了化學鍍NIWP工藝以及鍍層分別在H2SO4HCLA腐蝕液、NH42SB腐蝕液和NAHCO3CACL2C腐蝕液的耐蝕性能。以鍍層的沉積速率和腐蝕速率作為評價指標，通過正交試驗對化學鍍NIWP工藝進行了優(yōu)化，得出了最佳的工藝參數(shù)。在正交試驗的基礎上優(yōu)化得到的化學鍍NIWP工藝參數(shù)為A腐蝕液中，硫酸鎳24GL，次亞磷酸鈉28GL，鎢酸鈉20GL，檸檬酸15GL，乳酸27MLL，鍍液PH值為54，施鍍溫度88℃，施鍍時間為2HB腐蝕液中，硫酸鎳26GL，次亞磷酸鈉30GL，鎢酸鈉20GL，檸檬酸19GL，乳酸27MLL，鍍液PH值為54，施鍍溫度88℃，施鍍時間為2HC腐蝕液中，硫酸鎳24GL，次亞磷酸鈉28GL，鎢酸鈉20GL，檸檬酸19GL，乳酸27MLL，鍍液PH值為64。對鍍層的表面形貌、結構及成分分布進行了檢測。掃描電鏡觀察結果顯示，化學鍍NIWP鍍層表面都由多個相互獨立而較為均勻的單元式球形胞狀顆粒構成，具有典型的菜花狀形貌XRD分析表明，鍍層是典型的“饅頭”狀衍射峰，為非晶態(tài)結構，屬于均一的單相體系，并處于熱力學亞穩(wěn)定狀態(tài)。選取優(yōu)化的NIWP合金鍍層與正交試驗中分別在H2SO4HCLA腐蝕液、NH42SB腐蝕液和NAHCO3CACL2C腐蝕液中耐蝕性較差的鍍層進行對比，研究鍍層在腐蝕溶液中的腐蝕行為。實驗結果表明，化學鍍NIWP鍍層耐蝕性主要取決于鍍層的非晶態(tài)結構、鍍層中P、W的含量、鍍層表面的生長方式、腐蝕介質的性質以及環(huán)境等因素的影響。

簡介：還原染料間接電化學還原染色工藝利用電能代替?zhèn)鹘y(tǒng)的保險粉將還原染料還原，消除了高濃度亞硫酸鹽、硫酸鹽廢水及二氧化硫有毒氣體等的污染，是未來發(fā)展的一個方向。電化學還原染色工藝分為直接電化學還原染色、間接電化學還原染色與電催化氫化還原染色三種。由于直接電化學還原的電流效率最高只能達到80％，反應速率又受到離子自由基濃度低的限制，且電催化氫化還原存在催化劑價格高、壽命短、活性低，染料轉化率和電流效率都較低的原因，本實驗只研究最有可能實現(xiàn)工業(yè)化生產的間接電化學還原染色工藝。在目前的電化學還原染色研究中，由于媒介物質價格昂貴，這種染色工藝很難應用于大規(guī)模工業(yè)化生產。為了解決這一難題，本文在使用還原大紅R和三種媒介物質（氫氧化鈉、硫酸鐵、三乙醇胺）基礎上，采用還原染料隱色體浸染的方式染色，進行電化學染色廢液循環(huán)工藝的研究，從而達到降低生產成本、減少廢水排放的目的。首先，在染料和NAOH濃度相同的情況下，分別進行保險粉還原染色和電化學還原染色，發(fā)現(xiàn)電化學染色織物具有良好的勻染性，所染織物色光和鮮艷度與傳統(tǒng)保險粉染色染得織物基本相同。然后，利用此工藝條件，回收足量的還原大紅R染色廢液用于電化學染色，織物被染花。必須將廢染液中染料顆粒過濾除去，才能重復利用。通過分析還原染料間接電化學染色廢液中染料和媒介物質的濃度變化，確定循環(huán)使用廢染液染色時需要補加的三種媒介物質量均為10％；同時發(fā)現(xiàn)，在通電條件下，將廢液中染料充分空氣氧化形成不溶性顆粒并過濾掉這些染料后，再補充新鮮染料和10％的媒介物質，即可實現(xiàn)循環(huán)染色，七次循環(huán)染色實驗中，每次循環(huán)染色織物的勻染性和KS均與初次染色織物沒有差別，而且這種循環(huán)方法每次可節(jié)約三種媒介物質高達90％。另外，采用此循環(huán)染色工藝，回收的染浴還可以對還原黃G、還原藍RS進行單色染色以及三原色拼色染色，并通過測色配色儀和色牢度的測試，與保險粉染色織物的KS值和色光進行了比較，結果表明，采用這套循環(huán)染色工藝進行電化學染色織物的得色深度和色光符合要求，同時所染織物具有優(yōu)良的染色牢度。最后，由于還原染料價格昂貴，本實驗還回收了還原染料，并再次用于電化學染色，結果表明，回收染料所染織物與新鮮染料染色織物相比，得色深度和色光符合要求，同時所染織物具有優(yōu)良的染色牢度，證明了回收染料可以重復利用。本文的研究意義在于，首先，在電化學循環(huán)染色的工藝中，節(jié)約了三種媒介物質高達90％，大大降低了生產成本，減少了對環(huán)境的污染；同時，該循環(huán)染色工藝不僅能用于還原染料單色染色，還能較好的用于拼色染色，因而使得還原染料電化學循環(huán)染色在工業(yè)化生產中更具有更廣泛的用途，并降低了電化學還原染色方法在工業(yè)化應用中的限制。

簡介：儲氫合金是一類能在常溫常壓下與氫反應，將大量氫儲存在晶體空隙中的合金材料。這類合金可以通過加熱或減壓將儲存的氫釋放出來，通過冷卻或加壓又可以將氫再次吸入合金之中。近年來為了獲得具有高功率、低成本的儲氫合金，LAFEB系儲氫合金受到廣泛關注。本文采用熔煉快淬工藝制備LA12CE3FE10NI63MN5AL6B儲氫合金，通過XRD、SEM、EDS以及電化學測試等手段，系統(tǒng)地研究了不同熱處理方法對合金結構和電化學性能的影響。結構測試表明所有合由LANI5相和FE，NI相組成。電化學測試表明同等條件下，稀醋酸淬火介質比濃堿淬火介質更加有利于改善LA12CE3FE10NI63MN5AL6B儲氫合金的性能。適當?shù)拇慊鹛幚項l件溫度和保溫時間能夠改善合金的平臺性能和儲氫性能，提高合金電極的放電容量、活化性能和高倍率性能，但合金電極的循環(huán)穩(wěn)定性有所下降。對淬火合金進行保溫退火處理，成分更加均勻。退火處理使合金電極的活化性能提高，倍率性能得到改善，但最大放電容量和循環(huán)壽命以及平臺性能降低。

簡介：心血管支架的表面粗糙度是影響支架質量的重要因數(shù)之一。光滑表面的支架不易對內皮造成劃傷，且有效阻止血小板的激活，影響血栓形成與內膜增生。其中電化學拋光具有獨特優(yōu)勢，在支架拋光中受到重視。但由于商業(yè)競爭等因數(shù)，支架拋光的具體工藝規(guī)范鮮有報道，制約了新型材料支架的制作難度與推廣。本文針對目前流行的鈷鉻合金支架電化學拋光工藝進行系統(tǒng)性研究。利用L934正交實驗表明磷酸硫酸鉻酐系電化學拋光液能取得較好的拋光質量。影響鈷鉻合金支架拋光質量的四個因素按主次分為溶液成分，溫度，電流密度，時間。并利用單因素實驗進行參數(shù)優(yōu)化，得到了穩(wěn)定的電化學拋光工藝參數(shù)，拋光質量與市售鈷鉻合金支架無異。同時，明確了預處理電化學拋光清洗鈍化的鈷鉻合金電化學拋光工藝流程，解決了難以落料，如何保存等相關技術難題。對拋光過程中遇到的問題也進行了分類討論，并提出相應的解決方案。本文對研究前沿的可降解支架植入金屬鎂合金板材拋光工藝進行了研究，解決了鎂合金難以鏡面拋光的技術難題，并得到了適合鎂合金支架的鏡面拋光工藝方案。文中利用化學拋光和電化學拋光技術同時對比研究磷酸系化學拋光工藝能得到較好的反光度，但表面點腐蝕坑較多，難以去除硝酸系電化學拋光工藝得到較好的平整性，腐蝕均勻，但拋光完成后容易被氧化形成白色薄膜，從而影響反光度。本文創(chuàng)新性的采用以電化學拋光為主的化學電解拋光復合工藝，綜合兩種工藝優(yōu)勢，平衡鎂合金拋光表面平整度及反光度，達到較佳的拋光質量，拋光后的表面能清晰映出漢字，表面相對拋光前更耐腐蝕。文中規(guī)范了鎂合金拋光的工藝流程，重點為清洗與保存等細節(jié)處理，為鎂合金支架拋光的工業(yè)應用做了良好基礎。

簡介：點擊查看更多泡沫鋁制備用Fe-TiH2發(fā)泡劑的化學鍍工藝研究.pdf精彩內容。

簡介：本文在對國內外LAMGNI系儲氫合金研究進展進行全面綜述的基礎上，結合本實驗室的相關成果和經驗，確定以LAMGNI系AB30型LA06GD02MG02NI26CO03AL01合金和A5819型LA068GD02MG012NI33CO03AL01合金為研究對象，采用ICP、XRD、EPMA、RIETVELD全譜擬合等材料研究分析測試方法對該系列儲氫合金的微觀組織和電化學性能進行了系統(tǒng)的研究。通過制備相豐度較高的含GD低MGAB30型合金和A5B19合金，結合已制備出的A2B7型相豐度較高的LA0630D02MG017NI31CO03AL01儲氫合金，試圖闡述在含GD低MG條件下AB30型相、A287型相和A5819型相三者之間的相互關系。由于MG元素在LAMGNI系儲氫合金中占據(jù)著非常重要的作用且對含量較敏感，但因其本身特點飽和蒸氣壓大及熔點、沸點較低在制備過程中不易控制。根據(jù)最近相關文獻和報道，HE對抑制MG元素有比較好的作用效果，本文將對HE在熔煉過程中對MG元素的影響和作用機理進行研究。在密閉條件下對AB30型LA06GD02MG02NI26CO03AL01儲氫合金進行不同溫度873K1123K的熱處理。研究發(fā)現(xiàn)，該合金的退火組織主要由CE2NI7型、CACU5型和PUNI3型相組成，適當增加退火溫度有利于提高退火合金組織中PUNI3型相的相豐度，當退火溫度T1073K時，PUNI3型相的相豐度達到最大值為8695WT％，同時合金電極放電容量也達到了最大值為34999MAHG，但循環(huán)壽命S100降低為6957％。當退火溫度T873K時，合金電極放電容量僅為24417MAHG；循環(huán)壽命S100達到8232％。在密閉條件下對A5B19型LA06SGD02MG012NI3JCO03AL01儲氫合金進行不同溫度1173K1273K的熱處理。研究發(fā)現(xiàn)，該合金鑄態(tài)組織主要由CACU5型、PR5CO19CE5CO19型和PUNI3型相組成，退火后合金則形成以A5B19型PR5CO19和CE5CO19為主相的多相組織，隨退火溫度的升高PR5CO19型主相的相豐度逐漸增加，當T1273K時，其相豐度達到最大值878WT％。鑄態(tài)合金電極放電容量最低31398MAHG，循環(huán)穩(wěn)定性最差6957％；退火處理對合金電極的活化性能和大電流放電特性影響不明顯，但對電極容量和循環(huán)穩(wěn)定性影響較大；當T1273K時，合金電極放電容量為37301MAHG，循環(huán)壽命S100為9020％，表現(xiàn)出較好的電化學性能。通過對不同計量比合金AB30型、A287型和A5B19型的電化學性能進行研究，發(fā)現(xiàn)在各相豐度達到較高時A287型LA068GD02MG017NI31CO03AL01合金電極的綜合電化學性能最好，其電化學容量、循環(huán)壽命和高倍率性能HRD900分別為38680MAHG、S1009150％和8090％；其次是A5B19型LA068GD02MG012NI33CO03AL01合金電極的電化學性能；最差的是AB30型LA06GD02MG02NI26CO03AL01合金電極的電化學性能，其電化學容量、循環(huán)壽命和高倍率性能HRD900分別為34999MAHG、S1006957％和3883％。研究不同氣氛下熔煉LA0630D02MG017NI31CO03AL01合金時MG的含量變化及其電化學性能，發(fā)現(xiàn)在不同氣氛下熔煉時，MG含量的差別較大。在純AR03MPA保護氣氛下熔煉時MG含量僅為054WT％，而在純HE03MPA保護氣氛下熔煉時MG含量增加到109WT％。說明HE氣作為熔煉時的保護氣體效果要明顯優(yōu)于AR氣。同時隨著純HE氣保護氣壓的增加，鑄態(tài)合金中MG含量基本呈增加趨勢。同時在AR03MPA和覆蓋劑條件下熔煉時，該合金中MG含量為125WT％，合金電極具有較好的循環(huán)穩(wěn)定性S100和容量，分別為9173％和38360MAHG。

簡介：AZ91D鎂合金的耐蝕性能差制約其進一步廣泛應用，如何在AZ91D表面制備具有良好耐蝕性能的化學鍍NIWP鍍層成為目前研究的熱點。本文通過建立三水平四因素正交實驗，優(yōu)化化學鍍工藝篩選得到成功率高耐蝕性能好的化學鍍工藝，并分析施鍍溫度，PH值，還原劑濃度，硫酸鎳濃度四個因素對化學鍍成功率的影響，實驗表明四個因素對化學鍍成功率影響程度大小依次為鍍液溫度鍍液PH硫酸鎳濃度次亞磷酸鈉濃度。最后對優(yōu)化工藝鍍層顯微結構及耐蝕性能進行分析，結果表明優(yōu)化工藝鍍層為低磷鍍層，顯微硬度為253HV，是基體的4倍，同時鍍層具有良好的耐蝕性能，對AZ91D鎂合金基體起到很好的保護作用。本研究在普通活化處理工藝基礎上引入超聲，利用掃描電子顯微鏡SEM及XRD等分析方法以及動電位極化曲線、電化學阻抗譜等電化學手段，研究了超聲前處理對化學鍍鍍層顯微結構及耐蝕性能影響。結果表面超聲前處理對基體活化更充分，更有利于NIWP鍍層沉積，提高了鍍層結合力。同時超聲前處理鍍層極化曲線擊破電位更高，鈍化區(qū)寬，具有更好的耐蝕性能，長期浸泡電化學阻抗測試結果也顯示超聲前處理工藝鍍層極化電阻更高，超聲前處理提高了鍍層耐蝕性能。通過設計攪拌，超聲功率60W，超聲功率105W，超聲功率150W四個化學鍍施鍍工藝，對比分析不同施鍍工藝化學鍍鍍層顯微組織及耐蝕性能，研究超聲對化學鍍施鍍過程的影響。結果表明與攪拌工藝相比超聲提高了化學鍍沉積速率，且功率由60W提高到105W時沉積速率有所增加，功率提高到150W時沉積速率變化不大；攪拌工藝鍍層表面有團聚漏鍍等現(xiàn)象，功率105W鍍層表面胞狀組織最為均勻致密。耐蝕性能測試顯示攪拌工藝鍍層極化曲線呈活性溶解，耐腐蝕性能最差，功率105W鍍層極化曲線呈鈍化擊破電位最大，維鈍電流最小，同時電化學阻抗測試表明功率105W鍍層極化電阻最大耐蝕性能最好；當功率提高至150W后由于超聲空化作用過強，鍍層耐蝕性能有所下降。實驗設計制備了雙層化學鍍層，利用SEM、XRD、EDS、動電位極化曲線及電化學阻抗譜測試對雙層化學鍍顯微組織及耐蝕性能并與單層化學鍍層對比分析，結果顯示雙層化學鍍鍍層在長期浸泡過程中具有更好的耐蝕性能。這是由于先鍍的第一層NIWP鍍層比第二層鍍層開路電位高，由于電偶效應有利于減緩腐蝕同時雙層化學鍍層有利于減少鍍層通孔從而提高了鍍層耐蝕性能。