紫銅基片上液相沉積二氧化硅薄膜地?zé)崴拦阜栏匦?pdf

1、地?zé)嶙鳛橐环N新能源,具有分布廣、成本低、可直接利用、對(duì)環(huán)境污染小等優(yōu)點(diǎn)。但是地?zé)崴慕Y(jié)垢與腐蝕是地?zé)崂弥写嬖诘膬蓚€(gè)突出問(wèn)題,結(jié)垢與腐蝕的出現(xiàn)導(dǎo)致傳熱效率及出水量下降、能耗和物耗增加,同時(shí)帶來(lái)嚴(yán)重的安全隱患。目前,針對(duì)地?zé)崴畵Q熱器設(shè)備的防垢與防腐問(wèn)題,研究者主要采用添加化學(xué)抑制劑、涂覆有機(jī)涂層等方法以減緩或防止設(shè)備的結(jié)垢與腐蝕,但是,這些方法存在各種問(wèn)題,有必要探索用于地?zé)崴畵Q熱設(shè)備防垢防腐的新方法。文獻(xiàn)分析表明,傳熱表面的表面能對(duì)污垢

2、的附著有較大影響,降低表面能可以減少地?zé)崃黧w中污垢在傳熱表面的附著,從而達(dá)到防垢的目的。
　　 本文采用液相沉積法在經(jīng)過(guò)打磨、拋光、清洗等處理的紫銅基底樣片上制備厚度不同SiO2薄膜,通過(guò)對(duì)紫銅表面進(jìn)行修飾,以降低表面能,由于薄膜為微納米級(jí)厚度,對(duì)傳熱效率幾乎沒(méi)有影響；同時(shí)SiO2薄膜具有良好的耐腐蝕、耐磨損等特點(diǎn),防垢的同時(shí)也達(dá)到了防腐的效果。研究了氟硅酸濃度、硼酸濃度、沉積溫度、沉積時(shí)間對(duì)薄膜的沉積速率的影響,并對(duì)各樣片的粗

3、糙度、表面形貌、組成成分、接觸角、表面能、薄膜厚度等進(jìn)行了測(cè)量與表征,獲得了優(yōu)化的沉積條件,而經(jīng)SiO2薄膜修飾樣片的表面能降低。在污垢實(shí)驗(yàn)中,以碳酸氫鈉與無(wú)水氯化鈣配制碳酸鈣飽和溶液為工質(zhì),研究了未處理樣片、拋光樣片及沉積SiO2薄膜樣片在不同溫度及時(shí)間下的表面結(jié)垢狀況及結(jié)垢速率,結(jié)果表明,經(jīng)薄膜修飾樣片的防垢效果明顯優(yōu)于未處理樣片及拋光樣片；同時(shí),本實(shí)驗(yàn)采用全浸試驗(yàn)方法,以地?zé)峋疄楣べ|(zhì)進(jìn)行腐蝕實(shí)驗(yàn),研究了未處理樣片、拋光樣片及沉積