電子束蒸發(fā)制備TiO-,2-薄膜及光學(xué)性能的研究.pdf

1、該文用電子束反應(yīng)蒸發(fā)法在K9玻璃上制備了TiO<,2>薄膜.用正交試驗(yàn)法研究了制備過(guò)程中的主要工藝因素基片溫度、沉積速率、真空度對(duì)薄膜的主要光學(xué)常數(shù)折射率以及消光系數(shù)產(chǎn)生的影響.薄膜的折射率和消光系數(shù)用橢圓偏振儀測(cè)量并計(jì)算得到,用分光光度計(jì)測(cè)量了膜的透射率光譜曲線,薄膜的微觀形貌和結(jié)構(gòu)由掃描電鏡以及X射線衍射儀進(jìn)行了分析.通過(guò)極差法確定了在電子束反應(yīng)蒸發(fā)的制備條件下得到最佳光學(xué)性能的TiO<,2>薄膜的工藝條件為:基片溫度300℃、真空

2、度2×l0<'-2>pa、沉積速率0.2nm/s,得出了基片溫度對(duì)TiO<,2>薄膜光學(xué)性能影響最大的結(jié)論.用最佳工藝條件制備的薄膜在可見(jiàn)光波段的范圍內(nèi)有很好的透光性,在掃描電鏡下觀察到薄膜的結(jié)構(gòu)為柱狀纖維結(jié)構(gòu).該文研究了退火工藝對(duì)不同基片溫度下制備薄膜的結(jié)構(gòu)以及光學(xué)常數(shù)的影響.對(duì)退火前后的薄膜進(jìn)行了X射線衍射分析、透射光譜分析,表明退火可以使非晶態(tài)結(jié)構(gòu)的TiO<,2>薄膜晶化并可以使折射率以及吸收情況得到較大的改善,確定了使薄膜的組織