基于偏最小二乘法的散射光譜探測(cè)反演研究.pdf_第1頁(yè)
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1、目標(biāo)識(shí)別反演在軍事、國(guó)防、工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)及科學(xué)實(shí)驗(yàn)，特別是在能源、材料、冶金、航天等領(lǐng)域中具有非常重要的地位。常用的探測(cè)反演方法容易受探測(cè)儀器響應(yīng)、背景噪聲、反識(shí)別材料等影響，無(wú)法達(dá)到很好的反演效果。
　　散射光譜是反映物質(zhì)的一種指紋，不僅包含了待測(cè)目標(biāo)的材質(zhì)信息、表面形貌信息和尺寸信息，且具有較強(qiáng)的抗干擾能力。因此本文提出了一種新的反演方法，利用目標(biāo)的散射光譜進(jìn)行反演識(shí)別。
　　本文分析了反射率函數(shù)的疊加原理，并通過室內(nèi)目標(biāo)散

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