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文檔簡(jiǎn)介
1、硫化鉛(PbS)、錫硫化物作為重要的Ⅳ-Ⅵ族半導(dǎo)體材料,在太陽(yáng)電池中得到廣泛的應(yīng)用。本文通過(guò)在旋涂輔助連續(xù)離子層吸附反應(yīng)(spin-coating-assistedSILAR)過(guò)程中使用乙二硫醇(EDT)和TiO2納米棒陣列相結(jié)合,成功在TiO2納米棒陣列上獲得了致密PbS量子點(diǎn)薄膜,組裝了結(jié)構(gòu)為FTO/致密PbS量子點(diǎn)薄膜敏化TiO2納米棒陣列/spiro-OMeTAD/Au的新穎結(jié)構(gòu)的全固態(tài)量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)電池。采用spin-coat
2、ing-assisted SILAR法制備PbS量子點(diǎn)薄膜敏化TiO2納米棒陣列,組裝了相應(yīng)的固態(tài)太陽(yáng)電池。對(duì)比了在spin-coating-assisted SILAR過(guò)程中使用EDT和不使用EDT對(duì)PbS量子點(diǎn)的沉積過(guò)程的影響,研究了旋涂循環(huán)次數(shù)對(duì)PbS量子點(diǎn)薄膜敏化TiO2納米棒陣列的表面形貌、晶相及光學(xué)吸收和相應(yīng)的固態(tài)太陽(yáng)電池光伏性能的影響;通過(guò)在spin-coating-assisted SILAR過(guò)程中使用EDT制備了不同T
3、iO2納米棒陣列微結(jié)構(gòu)致密PbS量子點(diǎn)薄膜敏化TiO2納米棒陣列,組裝了相應(yīng)的太陽(yáng)電池。研究了不同TiO2納米棒陣列微結(jié)構(gòu)對(duì)致密PbS量子點(diǎn)薄膜敏化TiO2納米棒陣列的表面形貌、晶相及光學(xué)吸收和相應(yīng)的固態(tài)太陽(yáng)電池光伏性能的影響。以鈦酸異丙酯為鈦源,水熱溫度為170℃,在TiO2致密層上生長(zhǎng)TiO2納米棒陣列。研究了水熱時(shí)間對(duì)TiO2納米棒陣列的形貌、晶相及光學(xué)吸收的影響;以SnCl2·2H2O、SnCl4·5H2O和硫脲的甲醇溶液為前驅(qū)
4、體溶液,通過(guò)旋涂熱解法制備SnS和SnS2薄膜。研究了熱解溫度對(duì)SnS和SnS2薄膜的化學(xué)組成、晶相、光學(xué)性能和表面形貌的影響。
結(jié)果表明在水熱溫度為170℃,水熱時(shí)間為105 min條件下制備的TiO2納米棒陣列的長(zhǎng)度、直徑和面密度分別為600 nm,20 nm和500μm-2。Spin-coating-assistedSILAR過(guò)程中使用EDT(旋涂循環(huán)次數(shù)為20次)獲得的PbS量子點(diǎn)緊緊的連接在一起形成了致密和全覆蓋的P
5、bS量子點(diǎn)薄膜,PbS量子點(diǎn)的平均晶粒尺寸為7.8nm,組裝的太陽(yáng)電池達(dá)到了4.10%的光電轉(zhuǎn)換效率。Spin-coating-assisted SILAR過(guò)程中不使用EDT所獲得PbS量子點(diǎn)薄膜不致密,旋涂循環(huán)次數(shù)為10次、20次和30次不使用EDT的PbS量子點(diǎn)的平均晶粒尺寸為10.9 nm,12.9 nm和15.0 nm,組裝的相應(yīng)的全固態(tài)太陽(yáng)電池分別取得0.77%,0.54%及0.23%的光電轉(zhuǎn)換效率,說(shuō)明EDT能夠控制PbS量
6、子點(diǎn)晶粒尺寸,在結(jié)合TiO2納米棒陣列的情況下可以獲得致密的PbS量子點(diǎn)薄膜,能夠全面提升相應(yīng)的量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)電池光伏性能;水熱溫度為170℃,水熱時(shí)間分別為75 min、100 min和120 min時(shí),納米棒的長(zhǎng)度、直徑和面密度分別為290 nm,15 nm和710μm-2、540 nm,20 nm和530μm-2、1040 nm,24 nm和300μm-2。陣列長(zhǎng)度為290 nm、540 nm和1040 nm的PbS量子點(diǎn)的平均晶
7、粒尺寸為7.8 nm,組裝的相應(yīng)的全固態(tài)致密PbS量子點(diǎn)薄膜敏化太陽(yáng)電池分別取得2.02%、4.81%和1.95%的光電轉(zhuǎn)換效率。因此,對(duì)于組裝全固態(tài)量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)電池,綜合考慮空穴傳輸長(zhǎng)度和量子點(diǎn)擔(dān)載量的平衡是獲得較高光電轉(zhuǎn)換效率的關(guān)鍵所在。SnS和SnS2薄膜的最佳的制備條件為:熱解溫度和時(shí)間分別為320℃,10 min和260℃,2 min。熱解溫度為320℃時(shí)制備的SnS薄膜Sn/S原子比為1∶0.99,具有良好的結(jié)晶度,薄膜呈
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