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1、緩沖層材料。3利用電化學沉積可以制備均勻致密的CuInS2薄膜，薄膜的厚度在2～3“m，薄膜呈p型。研究了溶液中不同銅銦摩爾比、pH值和絡(luò)合劑含量對沉積薄膜的影響。結(jié)果表明：當銅銦摩爾比取I：I，pH值取4，并向溶液中加入20m10025mo阮檸檬酸鈉作為絡(luò)合劑時得到的薄膜呈現(xiàn)較好的CuInS2相，并且銅銦硫三者含量也最符合化學計量比。同時，本章還研究了不同后續(xù)熱處理溫度對薄膜的影響，結(jié)果表明：隨著熱處理溫度的升高，薄膜呈現(xiàn)一種融化再結(jié)
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