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文檔簡介
1、本文結(jié)合表面離子印跡技術(shù)，為選擇性去除特定重金屬離子或回收貴金屬離子提供了一條新途徑，該法合成的吸附劑能夠?qū)δ０咫x子具有選擇吸附性能和特異親和性。本課題以硅膠為載體，3-氨基丙基三乙氧基硅烷(APS/KH550)為偶聯(lián)劑，水楊醛類Schiff堿(Sal)、丙酮酸類Schiff堿(PA)、一溴乙酸類Schiff堿（MBAA）為三種功能單體，環(huán)氧氯丙烷(ECH)為交聯(lián)劑，Pb2+為模板離子，利用表面離子印跡技術(shù)合成了一種新型離子印跡Schi
2、ff堿配體硅膠吸附材料IIP-Sal/SiO2、IIP-PA/SiO2、IIP-MBAA/SiO2，考察了烷基化硅膠AP-SiO2和離子印跡聚合物IIP-SiO2的合成條件，測定并探討了該材料對重金屬離子的吸附特性和機(jī)理。本文包括以下三方面的工作:
1.探究了烷基化硅膠的合成條件及最佳工藝。水熱合成AP-SiO2的較優(yōu)的條件為:反應(yīng)溫度為120℃，反應(yīng)時間72h，無水乙醇∶活化硅膠=4∶1(mL∶g)，KH550∶活化硅膠=1
3、∶1(mL∶g)左右。
2.合成了三種新型Schiff堿配體，通過表面印跡法制備了鉛離子印跡聚合物。
3.用靜態(tài)吸附法研究了IIP-SiO2和NIIP-SiO2的吸附過程的影響因素。結(jié)果表明:室溫條件下，將0.1g吸附劑加入到10mL濃度為100 mg/L pH值在5.0～6.0之間的鉛儲備液中，可達(dá)到較佳的吸附效果，在15～30 min達(dá)到飽和吸附時，吸附量在1.0～1.4之間。
4.研究了IIP-SiO
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