版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、湖北大學(xué)碩士學(xué)位論文BaSrTiO薄膜的磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕工藝研究姓名:全祖賜申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專業(yè):微電子學(xué)與固體電子學(xué)指導(dǎo)教師:張柏順20070501同。當(dāng)0 < V B 細(xì)< I .5 3 V 時(shí),J - V 曲線符合歐姆導(dǎo)電機(jī)制。當(dāng)4 .5 9V < V B 蛔< 1 0 .2 V 時(shí),l o g J - l o g V 曲線符合空間電荷限制電流( S C L C ) 模型。當(dāng)l O .7 1 V <
2、; V B h < 2 5V 或- 2 5v < ‰,< - 1 0 .7 1 V 時(shí),刻蝕前和刻蝕后以及刻蝕后再退火的B S T 電容器的漏電流密度主要受B S T /P t 或P t /B S T 界面處肖特基勢(shì)壘高度的限制,l n 2 - P 尼或l n 2 - N m 曲線符合肖特基發(fā)射模型。關(guān)鍵詞:B S T 薄膜;M E R L E 工藝;C F 4 /A r /0 2 等離子體;后期退火;等離子體誘導(dǎo)損傷
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 磁控濺射法制備ba,0.65sr,0.35tio,3鐵電薄膜及其電性能研究
- 脈沖激光法制備pb,0.35sr,0.65tio,3和ba,0.1sr,0.9tio,3薄膜的結(jié)構(gòu)、表面形貌和介電性能研究
- 反應(yīng)離子刻蝕的計(jì)算機(jī)仿真.pdf
- 4H-SiC的反應(yīng)離子刻蝕和電化學(xué)刻蝕研究.pdf
- 計(jì)算機(jī)控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)及刻蝕研究.pdf
- 反應(yīng)離子刻蝕輔助的單納米粒子水平的表面增強(qiáng)拉曼光譜研究.pdf
- ba,0.5sr,0.5tio,3鐵電薄膜和ba,0.5sr,0.5tio,3la,0.67sr,0.33mno,3多鐵薄膜的制備和性質(zhì)研究
- (Ba,Sr)TiO-,3-薄膜和(Ba,Sr)TiO-,3--YBa-,2-Cu-,3-O-,7-δ-異質(zhì)薄膜的脈沖激光沉積制備及性能研究.pdf
- pld法制備ba,0.6sr,0.4tio,3薄膜及其性能研究
- 交替摻雜ba0.6sr0.4tio3薄膜制備及界面結(jié)構(gòu)研究
- 反應(yīng)離子刻蝕碲化鋅晶體光學(xué)性質(zhì)與應(yīng)用研究.pdf
- 基于.net的反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
- 快速納米薄膜成形裝置研制及(Ba、Sr)TiO-,3-薄膜成形性研究.pdf
- znoal和sr0.5ba0.5tio3氧化物薄膜的微觀結(jié)構(gòu)研究
- 摻雜的(Ba,Sr)TiO-,3-薄膜與厚膜發(fā)光機(jī)理的研究.pdf
- 反應(yīng)離子刻蝕在穿透硅通孔封裝技術(shù)中的應(yīng)用研究.pdf
- ba0.8sr0.2tio3cofe2o4多鐵薄膜的制備及性能研究
- 射頻磁控濺射法制備介溫敏感(Ba,Sr)TiO-,3-薄膜.pdf
- Ba-,1-x-Sr-,x-TiO-,3-鐵電薄膜的制備及其性能研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論