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文檔簡介
1、正畸治療主要通過施力于牙冠表面,使牙齒在牙槽骨內(nèi)移動,進(jìn)而引起牙周組織發(fā)生組織學(xué)改建等一系列過程而完成。因此移動牙所處的牙槽骨結(jié)構(gòu)形態(tài)是影響牙齒移動的重要因素之一。上頜前磨牙位于第一磨牙之前口腔轉(zhuǎn)角后區(qū),不僅對后牙區(qū)咬合、支抗控制有重要影響,而且對正面靜態(tài)及微笑美觀均有影響。治療前上頜前磨牙在牙槽骨內(nèi)的位置對治療中牙齒安全快速的移動及治療后面部的美觀具有重要的參考價值。以往常用的正畸影像學(xué)檢查方法主要有頭顱側(cè)位片、正位片及曲面斷層X線片
2、等二維影像,此類影像對上頜前磨牙的顯示清晰度低,存在重影、偽影,且不能進(jìn)行三維方向的測量。錐體束狀計算機(jī)斷層(cone-beam computed tomography,CBCT)的出現(xiàn)解決了上述問題,相較于二維影像,CBCT影像無放大率,圖像清晰、重影偽影少,還能從不同斷面、不同角度對目的區(qū)域進(jìn)行觀察測量。CBCT與傳統(tǒng)CT比較具有掃描區(qū)域小、拍攝時間短、放射量低及費(fèi)用低等優(yōu)點(diǎn)。現(xiàn)已有學(xué)者應(yīng)用CBCT對不同垂直骨面型患者上切牙位置進(jìn)行
3、了詳細(xì)的研究,但CBCT對上頜前磨牙位置的研究尚未見相關(guān)報道。
目的:探討治療前不同垂直骨面型患者上頜左側(cè)前磨牙的位置是否存在差異,為正畸診斷、治療計劃的制定及治療過程中牙齒三維方向的控制提供參考。比較各類骨面型中上頜左側(cè)第一前磨牙與第二前磨牙在牙槽骨內(nèi)的位置,為正畸治療過程中牙齒的移動方式提供理論依據(jù)。
方法:從中山大學(xué)附屬口腔醫(yī)院正畸科選取正畸治療前病例59例(15~30歲),根據(jù)FMA角分類,高角型組2
4、0例、均角型組19例、低角型組20例。采用CBCT進(jìn)行全顱面拍攝,選取與橫斷面、矢狀面、冠狀面牙軸垂直且以阻力中心為原點(diǎn)的坐標(biāo),對上頜左側(cè)前磨牙與顱骨的關(guān)系、牙槽骨厚度、牙槽骨高度、牙齒的旋轉(zhuǎn)角度進(jìn)行定量測量,以單因素方差分析(one-way ANOVA)和LSD-t檢驗進(jìn)行數(shù)據(jù)的統(tǒng)計學(xué)分析。分別測量上頜第一前磨牙、第二前磨牙與顱骨的關(guān)系、牙槽骨厚度、牙槽骨高度、牙齒的旋轉(zhuǎn)角度,用t檢驗對兩者的測量結(jié)果進(jìn)行比較。
結(jié)果:⑴
5、上頜左側(cè)第一、第二前磨牙根尖至腭側(cè)骨皮質(zhì)的距離,低角型組大于均角型組,均角型組大于高角型組(P<0.05)。上頜左側(cè)第一、第二前磨牙處頰腭側(cè)牙槽嵴高度,高角型大于均角型,均角型大于低角型,且腭側(cè)比頰側(cè)高(P<0.05)。⑵上頜左側(cè)第一、第二前磨牙牙軸與腭側(cè)骨皮質(zhì)的夾角,低角型組比均角型組大,均角型組比高角型組大(P<0.05)。上頜左側(cè)第一前磨牙根尖到腭平面的距離,高角型組最長,低角型組最短(P<0.05)。⑶上頜左側(cè)第二前磨牙阻力中心
6、到根尖的距離,均角型組最大,高角型組最小(P<0.05)。上頜左側(cè)第二前磨牙根尖到腭平面的距離,均角型組最小,高角型組最大(P<0.05)。⑷各骨面型中,根尖至頰側(cè)骨皮質(zhì)的距離與牙根頰側(cè)旋轉(zhuǎn)角度、頰側(cè)旋轉(zhuǎn)距離及最大旋轉(zhuǎn)距離,上頜左側(cè)第二前磨牙均大于上頜左側(cè)第一前磨牙(P<0.05)。⑸在均角型和低角型組中,頰側(cè)牙槽骨高度與阻力中心到根尖的距離,上頜左側(cè)第二前磨牙均大于上頜左側(cè)第一前磨牙(P<0.05)。在低角型組中,牙軸與腭側(cè)骨皮質(zhì)的夾
7、角,上頜左側(cè)第一前磨牙大于上頜左側(cè)第二前磨牙(P<0.05)。
結(jié)論:①在上頜左側(cè)前磨牙區(qū),腭側(cè)牙槽骨厚度,低角型組大于高角型組,腭側(cè)厚于頰側(cè);頰腭側(cè)牙槽骨高度,高角型組大于低角型組,且腭側(cè)高于頰側(cè)。②上頜左側(cè)第一、第二前磨牙牙軸的頰傾程度,高角型組大于均角和低角型組。③不同垂直骨面型的上頜前磨牙牙根在牙槽骨內(nèi)的移動范圍均無差別。④頰側(cè)牙槽骨的厚度,上頜左側(cè)第二前磨牙區(qū)大于第一前磨牙區(qū);上頜左側(cè)第二前磨牙在牙槽骨內(nèi)的移動范
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