電弧離子鍍制備MgO薄膜的分形表征.pdf

1、MgO薄膜作為理想的保護(hù)層材料已經(jīng)廣泛應(yīng)用于等離子顯示技術(shù)中，其具有抗濺射、高的真空二次電子發(fā)射系數(shù)、可見(jiàn)光區(qū)透過(guò)率高等特點(diǎn)使MgO薄膜具有非常廣闊的應(yīng)用前景。目前，有多種制備MgO薄膜的方法。而電弧離子鍍方法具有高效、低成本和高離化率的特點(diǎn)，它所制備的薄膜與襯底之間具有良好的附著力，并且表面結(jié)構(gòu)致密，適合工業(yè)化生產(chǎn)。如何使用電弧離子鍍制備出質(zhì)量好的MgO薄膜具有重要的意義。 本文利用電弧離子鍍制備了不同工藝參數(shù)下的MgO薄膜，

2、探討電弧離子鍍工藝參數(shù)對(duì)氧化鎂薄膜質(zhì)量的影響。而分形作為一個(gè)非常有效的表征薄膜形貌的手段，在本論文中被用來(lái)表征MgO薄膜的形貌。 通過(guò)對(duì)不同工藝參數(shù)下的MgO薄膜進(jìn)行XRD、SEM和AFM測(cè)試，并結(jié)合分形計(jì)算方法對(duì)薄膜的表面進(jìn)行了表征，發(fā)現(xiàn)： 在不同的沉積氣壓(0.7-2.33Pa)、不同的氧流量(180-240sccm)、不同的脈沖偏壓(0-600V)條件下制備的MgO薄膜其表面具有分形特征。 不同的沉積氣壓(

3、0.7-2.33Pa)下制備的MgO薄膜，分形維數(shù)在1.27-1.62Pa之間出現(xiàn)陡變，可能與薄膜生長(zhǎng)的結(jié)晶情況變化有關(guān)。在0.7Pa，下制備的薄膜表面起伏較小并且膜面小島較為圓潤(rùn)，表面形貌最好。 不同的氧流量(180-240sccm)下制備的MgO薄膜，分形維數(shù)在200sccm和220sccm間出現(xiàn)陡變，而這個(gè)過(guò)程也是MgO(200)峰和(220)峰強(qiáng)度比發(fā)生劇烈變化的過(guò)程。當(dāng)氧流量為180sccm時(shí)制備的薄膜表面起伏較小并且