電子簾加速器長(zhǎng)陰極下垂對(duì)電子束分布影響的研究.pdf

1、電子簾加速器是一種低能電子加速器，廣泛應(yīng)用于薄膜輻照及涂層固化。在實(shí)際工業(yè)應(yīng)用中，輻照幅度較寬的材料時(shí)需要較長(zhǎng)的陰極，這樣陰極下垂撓度增大，電子束發(fā)散使輻照質(zhì)量降低。北京機(jī)械工業(yè)自動(dòng)化研究所曾經(jīng)研制了一臺(tái)陰極長(zhǎng)為500ram的電子簾加速器，電子密度分布均勻度好于±10％，但是對(duì)更長(zhǎng)陰極電子簾加速器的電子束分布均勻度并沒(méi)有做進(jìn)一步的研究。本文著重討論陰極下垂對(duì)電子束流縱向分布影響。 論文從電場(chǎng)的改變、柵極縫透鏡效應(yīng)焦距的改變以及電

2、子發(fā)射密度改變等方面分析了陰極下垂對(duì)電子縱向分布的影響。 對(duì)CST軟件的算法、網(wǎng)格劃分、電子源設(shè)定以及運(yùn)行參數(shù)等進(jìn)行了研究，以使能夠在現(xiàn)有設(shè)備的基礎(chǔ)上得到最好的結(jié)果。 完整地模擬了一種情況下的電子縱向分布，并對(duì)其結(jié)果進(jìn)行分析發(fā)現(xiàn)隨陰極下垂最終在鈦窗上的電子數(shù)量并不隨之單調(diào)減少。 力圖通過(guò)改變柵極電壓及聚焦極形狀來(lái)改善電子縱向分布，因此模擬了不同柵極電壓及不同聚焦極形狀的電子縱向分布并將結(jié)果比較，最終認(rèn)為僅通過(guò)改變