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1、非平衡磁控濺射(UBMS)是上世紀(jì)90年代，由國外的學(xué)者提出。在制備大面積均勻薄膜上非平衡磁控濺射有一定的優(yōu)勢，它具有較大的離子密度，對基片表面產(chǎn)生較強(qiáng)的離子轟擊作用，并使得薄膜產(chǎn)生更致密、更強(qiáng)結(jié)合力、更均勻的膜層，同時大大降低了鍍膜質(zhì)量對溫度的依賴性。非平衡磁控濺射中由于勵磁電流的影響使得濺射速率與粒子濃度較高，靶材表面的電子和離子的能量達(dá)到80eV左右，從工業(yè)生產(chǎn)的要求來看非平衡磁控濺射比傳統(tǒng)的平衡磁控濺射更具有優(yōu)勢。 本論
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