真空鍍膜機控制系統(tǒng)研究.pdf

1、磁控濺射是應用較為廣泛鍍膜的方法。磁控鍍膜設備具有鍍膜質量高、工藝流程短、鍍膜過程真空度能靈活掌握等優(yōu)點。本文針對真空磁控濺射鍍膜設備控制系統(tǒng)為研究背景，對鍍膜設備控制系統(tǒng)進行研究與設計。鍍膜計算機控制系統(tǒng)主要包括靶電源、抽真空、水冷設備等電氣控制系統(tǒng)，以及電流電壓、溫度、氣體流量、壓力等自動測量系統(tǒng)。
　　本文對真空鍍膜設備和磁控濺射鍍膜工藝進行了深入分析研究。根據(jù)鍍膜工作過程，分析靶極磁場的分布和離子動態(tài)響應電流過程。設計真空

2、鍍膜機控制系統(tǒng)的總體方案，選擇S7-300 PLC為控制系統(tǒng)的核心，實現(xiàn)對各個分系統(tǒng)的邏輯控制以及對現(xiàn)場采集來的數(shù)據(jù)進行處理。采用iFIX組態(tài)軟件進行上位機監(jiān)控系設計，并通過MPI與西門子PLC進行通訊讀取現(xiàn)場數(shù)據(jù)，完成了對生產(chǎn)過程各項參數(shù)的動態(tài)顯示和歷史數(shù)據(jù)的記錄，實現(xiàn)系統(tǒng)的遠程操控。真空磁控濺射鍍膜機是靠惰性反應氣體離子通過電場的作用以高速飛向靶材并且轟擊靶材，進行濺射鍍膜。離子電流的動態(tài)響應過程是磁控濺射鍍膜工藝重要部分。由于濺射