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文檔簡介
1、幾十年來,CMOS IC一直遵循摩爾定律不斷發(fā)展,集成度不斷提高,從目前的發(fā)展預(yù)測,在21世紀(jì)的前十年,CMOS器件的特征尺寸將從幾百納米縮小到幾十納米。研究進入納米尺度的CMOS器件面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)和物理問題已經(jīng)成為當(dāng)前迫切而重要的問題。而在IC EDA軟件中,精確的MOSFET的器件模型是實現(xiàn)IC EDA設(shè)計和IC產(chǎn)品功能與性能聯(lián)系起來的基礎(chǔ)和關(guān)鍵紐帶。本文通過引入泊松一薛定諤方程自洽方法,數(shù)值求解了泊松方程和薛定諤方程的自洽解,得出
2、量子修正后一維閾值表面勢模型,并在此基礎(chǔ)上,求解準(zhǔn)二維泊松方程,建立了小尺寸MOSFET的量子修正閾值電壓模型。本文用數(shù)值方法驗證了所得到模型的準(zhǔn)確性。具體方法是對一組采用0.5μm工藝、柵氧化層厚度為7nm、不同溝道寬長比的nMOSFET器件進行了BSIM3系列模型直流參數(shù)的提取,把提取得到的模型參數(shù)輸入BSIM3模型中,并利用此新模型,用電路模擬仿真工具HSPICE對數(shù)字電路進行模擬與仿真,得到了很好的仿真結(jié)果。證明了提出的閾值電壓
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