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文檔簡介
1、隨著硬盤容量的級數(shù)增長，硬盤外形尺寸的逐步減小，磁頭在碟面上的飛行高度越來越低，直至10納米以內(nèi)。如此低的飛行高度對硬盤磁頭的清潔度要求幾近苛刻。要使硬盤的性能提高，就必須有更清潔的磁頭表面。磁頭的清潔度已經(jīng)成為當今硬盤行業(yè)向前發(fā)展的瓶頸。然而 HGA組裝工序復雜,污染物的來源廣，污染控制要求尺寸小，清洗方法單一。如何保證超凈的磁頭已經(jīng)成了各大硬盤制造商的絕密武器。
本文針對目前硬盤磁頭折片組(Head Gimbal Asse
2、mbly,HGA)的工序，運用科學的指導思想分析目前HGA污染面臨的問題，分析磁頭污染和HGA工序的密不可分的內(nèi)在聯(lián)系。通過對國內(nèi)外文獻的查閱,在總結(jié)失效模式和影響分析(Failure Modes and Effects Analysis,FMEA)和試驗設計(Design of Experiment,DOE)的應用基礎上,提出了基于FMEA/DOE質(zhì)量管理的HGA污染控制的雙防線模型。在預防性防線中利用FMEA使HGA組裝工序中污染風
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