以Ti-,2-O-,3-為膜料反應(yīng)蒸發(fā)制備TiO-,2-光學(xué)薄膜的研究.pdf

1、在ZZS700-6/G電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)上增加氧(純度99.99﹪)離子源輔助鍍膜設(shè)備后，采用低價態(tài)氧化物Ti2O3作為蒸發(fā)材料制備光學(xué)用的氧化鈦薄膜?？疾炝穗x子源的各項參數(shù)、通入O2的流量和退火處理對薄膜結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響。同時采用XRD對不同的蒸發(fā)源物質(zhì)與蒸發(fā)剩余物質(zhì)進(jìn)行了詳細(xì)的研究和對比，分析了材料的蒸發(fā)過程對薄膜的形成和性能的影響。 用UV755B型分光光度計測試了薄膜的透射光譜，并通過干涉極值計算方法獲得了薄膜的折射

2、率等參數(shù)。實驗表明，以Ti2O3作為蒸發(fā)源物質(zhì)時，薄膜具有強(qiáng)烈的吸收，離子源輔助有利于形成高價態(tài)氧化物。但是，隨著薄膜厚度的增加，離子源的作用變得不明顯。采用TiO2作為蒸發(fā)源物質(zhì)時，薄膜具有較好的光學(xué)性能，在可見光范圍內(nèi)薄膜的折射率變化在2.23-2.73，離子源工藝對薄膜的光學(xué)性能影響不大。通過對蒸發(fā)物質(zhì)蒸發(fā)行為的研究發(fā)現(xiàn)，在Ti-O系中存在同一蒸發(fā)相Ti3O5，蒸發(fā)物質(zhì)經(jīng)過蒸發(fā)后最終將以此相相同的成分蒸發(fā)。退火處理有利于介穩(wěn)態(tài)的薄