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文檔簡介
1、隨著MOS器件柵氧化層變薄,柵的擊穿電壓下降,這使得ESD對集成電路的影響變大;同時在高速混合信號IC領域,高健壯度的ESD保護電路所產生的大的寄生電容與IC的工作速度之間存在著很難調和的矛盾,這使得ESD保護電路的設計變得更加困難。因此,對設計者來說,超深亞微米工藝下的高速集成電路ESD保護技術成為了很大的挑戰(zhàn)。本文針對高速混合信號集成電路ESD保護技術進行了研究,并設計出了應用于100Msps Pipeline ADC的ESD保護電
2、路。
本文首先詳細分析了ESD保護器件GGNMOS、GGPMOS和LVTSCR的結構和工作原理,并結合SMIC0.18μm CMOS工藝和影響其性能參數的各種因素進行了綜合考慮,提出了適用于高速混合信號集成電路不同端口保護器件的選擇依據。
根據被保護電路不同端口對ESD保護電路的具體要求,分別選取適當的ESD保護器件對輸入級、輸出級、VDD到VSS和數字時鐘端口的ESD保護電路進行了設計。其中,輸入級為主次二級的ES
3、D保護電路,其主級和次級ESD保護器件分別為LVTSCR和GGNMOS;輸出級ESD保護電路由GGNMOS和GGPMOS對構成;VDD-to-VSS和數字時鐘端口的ESD保護電路均由GGNMOS構成。同時,通過提高ESD保護器件的觸發(fā)電流和維持電壓有效地解決了ESD保護電路的閂鎖問題。
利用二維器件仿真工具Medici對各類ESD保護電路中的保護器件的直流特性進行了仿真。由仿真結果可知,GGNMOS的觸發(fā)電壓為7V,低于所用工
4、藝下MOS管柵的擊穿電壓8.5V,可以在輸入MOS管的柵擊穿之前開啟。LVTSCR的二次擊穿電流大于30mA/μm,在較小的面積下,可以泄放較大的ESD電流。輸入級和數字時鐘端口的保護電路總的寄生電容均為0.25pF,該電容滿足輸入信號和時鐘信號對負載電容的要求。
通過對ESD保護器件瞬態(tài)特性進行仿真可知,器件的開啟時間均低于0.15ns,滿足ESD模型放電速度的要求。在承受2KV的HBM ESD應力電壓下,GGNMOS、GG
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