雙膜三室鍍槽三價(jià)鉻鍍鉻研究.pdf

1、鉻具有較高的熔沸點(diǎn)和硬度。六價(jià)鉻電鍍工藝存在嚴(yán)重的環(huán)境污染問(wèn)題，鉻的析出電位較負(fù)，且氫在鉻電極上的過(guò)電位很小，電鍍時(shí)伴有劇烈的析氫副反應(yīng)，使電鍍鉻的電流效率很低。利用三價(jià)鉻鍍鉻幾乎沒(méi)有毒性，電流效率高，節(jié)約能源等。 本文研究了從三價(jià)鉻的硫酸鹽體系中在銅片上電鍍Cr鍍層，采用雙膜三室、在銅片上電鍍的實(shí)驗(yàn)裝置。利用本工藝獲得了光亮、均勻、致密的鉻鍍層，同時(shí)還具有電流效率高、工作電流密度寬、設(shè)備簡(jiǎn)單、無(wú)環(huán)境污染等特點(diǎn)。本文首先進(jìn)行了電

2、鍍體系的探索，在Cr<'3+>(NH<,4>)<,2>SO<,4>+H<,3>BO<,3>體系中，通過(guò)觀察鍍層的質(zhì)量、電流效率、表面形態(tài)，確定了鍍出光亮、均勻、致密牢固的鍍層的較優(yōu)條件是Cr¨的濃度為20g/L，電流密度Dk=8～14A/dm<'2>，pH=2.1～2.5，溫度為26～34℃，電鍍時(shí)間為15～20min，導(dǎo)電鹽為(NH<,4>)<,2>SO<,4>。通過(guò)實(shí)驗(yàn)，研究了三價(jià)鉻的工藝流程，探討了電流密度、溫度、PH值、電鍍時(shí)間

3、等工藝條件對(duì)三價(jià)鉻成膜性能的影響規(guī)律，并對(duì)電鍍?nèi)芤汉湾儗拥男阅芤策M(jìn)行了較為全面的測(cè)試。加入OP-10時(shí)，電流效率最大，其次為脲素。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，在三價(jià)鉻的硫酸鹽體系中可以在銅片上鍍出光亮、均勻、致密的鉻鍍層，采用OP-10作為添加劑，鍍層會(huì)更加均勻、光亮、致密，而采用糖精作為添加劑時(shí)幾乎沒(méi)有鍍層，當(dāng)采用脲素作為添加劑時(shí)鍍層雖然很厚，但是起皮非常嚴(yán)重，表面發(fā)黑。 通過(guò)極化曲線可知，在相同的條件下，攪拌可使總的極化曲線向負(fù)的方向移動(dòng)