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文檔簡介
1、近年來,微機(jī)電系統(tǒng)和微納米器件呈現(xiàn)出蓬勃發(fā)展之勢。不同于傳統(tǒng)的大型結(jié)構(gòu),微機(jī)電系統(tǒng)中構(gòu)件的主導(dǎo)尺寸一般處在微米及以下量級。隨著材料和結(jié)構(gòu)特征尺寸的減小,材料的力學(xué)行為呈現(xiàn)出明顯的尺度相關(guān)性。傳統(tǒng)的尺度無關(guān)力學(xué)理論在解決微型構(gòu)件的安全設(shè)計和可靠性評價時常常失效。隨著微機(jī)電系統(tǒng)的快速發(fā)展,迫切需要深入理解微尺度下材料力學(xué)行為及其內(nèi)在機(jī)理,發(fā)展相應(yīng)的微尺度力學(xué)測試方法,構(gòu)建尺度相關(guān)力學(xué)理論,以便為各種微型構(gòu)件的安全設(shè)計和可靠性評定提供理論和技
2、術(shù)支持。
在過去的二十余年里,幾種微觀力學(xué)實(shí)驗,包括微拉壓、微彎曲、微扭轉(zhuǎn)和微壓痕等,被大量地用來測量材料在微納米尺度下的力學(xué)行為。當(dāng)試樣的尺寸下降到微米及以下量級時,設(shè)計微拉壓、微彎曲、微扭轉(zhuǎn)實(shí)驗中的夾持裝置變得十分困難和昂貴。與這些微觀實(shí)驗方法相比,微壓痕實(shí)驗操作相對簡單,適應(yīng)面寬,已被廣泛用來測量微米以及納米尺度下材料的力學(xué)行為,包括彈性模量、屈服應(yīng)力、應(yīng)力應(yīng)變關(guān)系等。然而,影響微/納米壓痕尺度效應(yīng)的因素十分復(fù)雜,包
3、括壓頭幾何(形狀和大小)、材料性質(zhì)(微結(jié)構(gòu)、非均質(zhì)性、軟硬等)、表面特征(表面粗糙度、表面能等)等多個因素。有關(guān)壓痕尺度效應(yīng)及相應(yīng)的內(nèi)在機(jī)理雖已開展了較多的研究,但與壓痕微尺度相關(guān)的一些深層次問題仍未解決。
本文基于Van der Giessen和Needleman (1995)提出的二維離散位錯動力學(xué)模擬框架,通過與ANSYS?軟件的接觸算法相結(jié)合,開發(fā)了二維半無限大平面壓痕離散位錯動力學(xué)計算程序。在此基礎(chǔ)上,利用該程序
4、,對多晶、微柱、金屬基復(fù)合材料以及薄膜/基體系統(tǒng)等微結(jié)構(gòu)和材料在微米壓頭作用下的微尺度效應(yīng)及其離散位錯機(jī)理開展了較深入的研究,得到了如下主要結(jié)果:
1、對于微米多晶材料,晶粒尺寸和圓形壓頭半徑對微壓痕的塑性變形有顯著影響。(1)在相同的壓痕深度下,壓痕壓力和硬度隨著晶粒尺寸和壓頭半徑的減小而增大。(2)壓痕壓力取決于壓頭相對于晶界的位置。當(dāng)壓頭靠近晶界時,壓痕壓力明顯增大。(3)在此基礎(chǔ)上,建立了壓痕硬度與晶粒大小、壓頭半
5、徑之間的經(jīng)驗公式,該式與計算結(jié)果符合良好。
2、單晶微柱的壓縮顯現(xiàn)出強(qiáng)烈的尺度效應(yīng)。由于基座和剛性壓頭的約束作用,微柱的尺度效應(yīng)強(qiáng)烈地依賴于微柱幾何(寬度、高寬比、錐度)和滑移面取向角等多種因素。計算表明:至少有位錯滑出機(jī)制和端部約束兩個重要機(jī)制影響單晶微柱的微尺度效應(yīng)。通常情況下,對于細(xì)長型微柱,由于大量的滑移面與微柱側(cè)面相交,位錯滑出機(jī)制占優(yōu),壓縮應(yīng)力~應(yīng)變曲線硬化率較低;而對于矮胖型微柱,由于大量滑移面與微柱端部相交
6、,端部對位錯的阻礙作用機(jī)制占優(yōu),壓縮應(yīng)力~應(yīng)變曲線硬化率較高;如果兩種機(jī)制共同存在時,微柱尺度效應(yīng)將變得十分復(fù)雜。
3、對于顆粒呈簡單周期性排列的納米顆粒增強(qiáng)金屬基復(fù)合材料,顆粒尺寸和壓頭位置對其壓痕的尺度效應(yīng)有顯著影響。當(dāng)顆粒的體積百分較大時,由于顆粒對位錯的強(qiáng)烈阻礙作用,壓痕硬度總是隨顆粒尺寸的減小而增大。然而,當(dāng)顆粒體積百分比較低時,由于顆粒的周期性排布,壓痕硬度隨顆粒尺寸的變化變得非常復(fù)雜。一般來說,當(dāng)復(fù)合材料內(nèi)部
7、顆粒的排布有利于位錯自由滑移帶形成和發(fā)展時,壓痕硬度顯著降低,反之亦然。
4、對于薄膜/基體系統(tǒng),薄膜壓痕的硬度依賴于壓痕深度、壓頭半徑和薄膜厚度。(1)由于基體對位錯的約束作用,在同樣壓痕深度 下,薄膜厚度 越小,壓力 明顯增加;(2)壓痕下的位錯分布與薄膜厚度密切相關(guān),當(dāng)薄膜厚度較小時,部分位錯可以在遠(yuǎn)離壓頭的滑移面上形核和運(yùn)動;但當(dāng)薄膜厚度較大時,幾乎所有的位錯都分布在壓頭下方的矩形條帶區(qū)域中,與已有文獻(xiàn)中通常假設(shè)的
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