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1、SPC(StatisticalProcessContr01)即統(tǒng)計(jì)過程控制,作為一種先進(jìn)的質(zhì)量控制方法在國(guó)內(nèi)外工業(yè)界已經(jīng)廣泛被采用,但面對(duì)日益發(fā)展的生產(chǎn)要求仍然給我們提出不少新的課題。隨著國(guó)家大力發(fā)展高端制造業(yè)的戰(zhàn)略部署,以半導(dǎo)體芯片為代表的高科技生產(chǎn)線紛紛落戶國(guó)內(nèi)。如何進(jìn)行有效的控制確保大規(guī)模生產(chǎn)芯片質(zhì)量已經(jīng)迫切地提到議事日程上來(lái),因此SPC技術(shù)的推廣和應(yīng)用已經(jīng)迫在眉睫。 另外,半導(dǎo)體芯片制造過程中所采用的包括薄膜氣相沉積,光
2、刻,刻蝕,摻雜,爐管擴(kuò)散等技術(shù),集合了材料,物理,化學(xué)等等幾乎所有的理工類科學(xué)領(lǐng)域最先進(jìn)的研究成果,其制造過程的復(fù)雜性,多樣性是顯而易見的,這又給我們?nèi)绾螒?yīng)用SPC技術(shù)控制工藝流程提出現(xiàn)實(shí)而且具體的挑戰(zhàn)。 本文首先討論了研究SPC技術(shù)在硅片生產(chǎn)中應(yīng)用的意義,從而提出了本課題研究的動(dòng)機(jī)和目的。其次,通過SPC技術(shù)基本理論的討論和相關(guān)文獻(xiàn)的回顧,具體分析SPC技術(shù)在半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)工藝過程中的實(shí)際應(yīng)用所面臨的問題,揭示傳統(tǒng)SPC控制技
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