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文檔簡介
1、隨著GeSi HBTs越來越廣泛的應(yīng)用于射頻/微波通信、衛(wèi)星通信和功率放大器等領(lǐng)域,如何在高頻、大功率應(yīng)用的前提下,提高GeSi HBT的熱穩(wěn)定性,成為人們需要研究的一個(gè)重要問題。 為了提高GeSi HBT的功率,通常采用發(fā)射極條長和條間距均勻分布的多發(fā)射極條(指)并聯(lián)的結(jié)構(gòu)。然而由于自熱和條間的熱耦合效應(yīng),靠近中間條上的溫度往往高于兩邊條上的溫度。發(fā)射極條上的溫度不均勻,一方面限制了GeSi HBT的功率處理能力;另一方面,使
2、器件變得熱不穩(wěn)定,容易出現(xiàn)熱燒毀,導(dǎo)致器件失效。 通過求解熱傳導(dǎo)方程,研究了使GeSi HBT發(fā)射極條上的溫度分布變得更均勻的設(shè)計(jì)方法。通過計(jì)算機(jī)模擬發(fā)現(xiàn),非均勻條長、非均勻條間距和非均勻發(fā)射極鎮(zhèn)流電阻設(shè)計(jì)都可以有效地改善器件溫度均勻性,降低器件的最高結(jié)溫。同時(shí)還發(fā)現(xiàn),在溫度分布均勻性改善方面,當(dāng)發(fā)射極條長分布、條間距分布和發(fā)射極鎮(zhèn)流電阻分布按二次函數(shù)式取值時(shí)比一次函數(shù)式取值更有效,指數(shù)函數(shù)式取值比二次函數(shù)式取值更有效。
3、 利用模擬得到的優(yōu)化設(shè)計(jì)方案,按照工藝條件的限制,對器件的結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行了設(shè)計(jì),分別繪制出了條長、條間距非均勻分布和加鎮(zhèn)流電阻的多種GeSi HBTs的版圖,并開發(fā)出GeSi HBT的工藝步驟,成功用于器件制造,驗(yàn)證了版圖設(shè)計(jì)和工藝流程的正確性。 對制作好的GeSi HBT,首先對它們的直流特性進(jìn)行了測試。主要測試了輸出特性曲線、Gummel曲線、Ic-HFE曲線及部分結(jié)特性曲線,得到了一些直流參數(shù)和極限參數(shù)。器件的開啟電壓、反向
4、電流、電流放大系數(shù)、擊穿電壓、最大集電極工作電流等參數(shù)都比較令人滿意。發(fā)射極線電流密度達(dá)到1.06-1.87A/cm,遠(yuǎn)高于Si BJT的線電流密度。這對器件的功率特性是非常有利的。 最后,對幾組器件進(jìn)行了表面溫度分布的測試與對比。采用非均勻條長和非均勻條間距設(shè)計(jì)的器件,表面溫度更加均勻,最高結(jié)溫也大幅度下降。采用均勻發(fā)射極鎮(zhèn)流電阻的結(jié)構(gòu),雖然器件的整體溫度下降,但最高溫仍出現(xiàn)在中心指上,且溫度分布仍不均勻。這些結(jié)果與模擬結(jié)果比
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