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文檔簡介
1、本文從以下幾方面對激光調(diào)阻機的光刻平臺系統(tǒng)進行了控制研究與設(shè)計：結(jié)合實驗分析了光刻平臺的動、靜態(tài)性能和定位精度對電阻光刻質(zhì)量的影響，并針對目前最微小的0402型號電阻對光刻平臺提出了控制要求。研究了帶動光刻平臺的新型直線電機控制原理，通過反復(fù)調(diào)整比例、積分等一系列伺服控制參數(shù)，并結(jié)合光刻平臺階躍動態(tài)曲線，提高了光刻平臺的響應(yīng)性。為了提高光刻平臺的定位精度，通過在控制中采用斜率校正法，減小了光刻平臺的定位誤差，解決了光刻平臺的定位精度問題
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