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1、金屬表面硅烷處理技術(shù)具有處理工藝過(guò)程簡(jiǎn)單、能耗低、對(duì)環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn),使得金屬表面硅烷化處理技術(shù)擁有可觀的市場(chǎng)前景。但是硅烷膜自身存在的膜薄、力學(xué)性能差、無(wú)法自身修復(fù)等缺點(diǎn)也在一定程度上限制了其應(yīng)用。而且,在硅烷的工業(yè)化應(yīng)用過(guò)程中,硅烷工作液的水解度數(shù)據(jù)是建槽過(guò)程中濃縮液稀釋倍數(shù)研究以及硅烷循環(huán)利用過(guò)程的重要依據(jù)。
本論文以雙-(3-三甲氧基硅基丙基)胺(BAS)和乙烯基三乙酰氧基硅烷(VTAS)的混合體系為研究對(duì)象,研究?jī)?nèi)容主
2、要包括三個(gè)方面:(1)采用氣相色譜內(nèi)標(biāo)法對(duì)混合體系中兩種硅烷的水解度進(jìn)行定量研究;(2)對(duì)純硝酸鋯成膜的制備工藝進(jìn)行優(yōu)化;(3)以硝酸鋯對(duì)硅烷進(jìn)行摻雜改性制備鋯鹽/硅烷復(fù)合膜,通過(guò)探討浸漬條件對(duì)雙電極體系的開(kāi)路電壓的影響,研究所制備膜的極化曲線及交流阻抗,提出鋯鹽/硅烷復(fù)合膜在浸漬過(guò)程中的成膜機(jī)理,并用掃描電鏡與原子力顯微鏡對(duì)膜的表面進(jìn)行觀察分析。
采用氣相色譜內(nèi)標(biāo)法分別得到樣品中CH3OH和CH3COOH的濃度值,并通過(guò)進(jìn)一
3、步計(jì)算得到BAS/MicxyV、BAS/IndustrialV和BAS/MayaV混合硅烷水解液中兩種硅烷的水解度分別為11.4%/29.1%,8.4%/26.9%和33.1%/27.9%,結(jié)合紅外光譜法、極化曲線和CuSO4點(diǎn)蝕實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)一步驗(yàn)證了三水解液樣品性能的優(yōu)劣順序?yàn)锽AS/MicxyV>BAS/IndustrialV>BAS/MayaV,同時(shí)也表明氣相色譜法可為硅烷水解液性能優(yōu)劣的評(píng)判提供有效的定量依據(jù)。
對(duì)于硝酸
4、鋯的成膜過(guò)程,當(dāng)浸漬時(shí)間為5min,浸漬溫度為30℃,工作液pH=4,硝酸鋯濃度為0.0039mol/L時(shí),所制備鋯膜具有最優(yōu)的耐腐蝕性能。對(duì)鋯鹽/硅烷復(fù)合膜的成膜機(jī)理的研究表明:在浸漬過(guò)程中混合溶液中的硝酸鋯優(yōu)先在冷軋鋼表面沉積,硅烷吸附在剩余的表面且在這個(gè)過(guò)程中鋯對(duì)硅烷進(jìn)行填充,通過(guò)極化曲線得到的鋯鹽/硅烷復(fù)合膜和鋯膜+硅烷膜復(fù)合膜中鋯膜的覆蓋率分別為46.9%和49.6%,也進(jìn)一步驗(yàn)證了上述機(jī)理,交流阻抗和極化曲線的測(cè)試結(jié)果表明:
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